[发明专利]一种光学反射调节结构

权利要求书

1.一种光学反射调节结构，它应用在多次反射的光学腔体中，其特征在于该结构包括：

(1)光学反射面，它是用于反射前述的光学腔中所发出的光波的反射工作面；

(2)复合支架控制结构，它设置在光学反射面下侧，设置包含有三支架支撑结构、两支架支撑结构在内的用于支撑光学反射面的支撑结构。

2.根据权利要求1所述的光学反射调节结构，其特征在于：所述的三支架支撑结构，包含有至少一个设置有压电陶瓷的支架。

3.根据权利要求1所述的光学反射调节结构，其特征在于：所述的两支架支撑结构，其中的一个支架与光学反射面之间至少有两个支撑点。

4.根据权利要求1所述的光学反射调节结构，其特征在于：所述的复合支架控制结构连带着光学支撑面，为独立的模块结构。

5.根据权利要求1或4所述的光学反射调节结构，其特征在于：在所述的复合支架控制结构上，按照三维的相互正交的XYZ坐标系中，针对于X、Y、Z这三个轴向，设置有至少对应其中之一的步进电机。

6.根据权利要求1所述的光学反射调节结构，其特征在于：所述的复合支架控制结构中，每个支架均由位于一端的步进电机和位于另一端的压电陶瓷所组成。

7.根据权利要求1所述的光学反射调节结构，其特征在于：所述的复合支架控制结构中，至少有其中一个支架为能够充液或充气的囊状结构。

8.根据权利要求7所述的光学反射调节结构，其特征在于：所述的囊状结构，是前端具有伸缩凸起的囊状结构，或球状、椭球状结构的其中之一。

9.根据权利要求1所述的光学反射调节结构，其特征在于：在所述的复合支架控制结构和光学反射面下侧之间，设置有通过套环组成的非固定式连接结构。

10.根据权利要求1所述的光学反射调节结构，其特征在于：对应着复合支架控制结构中的支撑结构，设置有通过滑动变阻器改变导入电流来实现位置改变探测的调节量探测组件。