[发明专利]用于光刻的包含杂取代的碳环芳基组分的组合物和方法

权利要求书

1.一种处理光刻胶组合物的方法，包括：

(a)在基材上施涂光刻胶组合物，所述组合物包括：

(i)一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)一种或多种包含杂取代的碳环芳基的材料；以及

(b)使光刻胶层浸没式曝光于使该光刻胶组合物活化的辐射下。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述一种或多种包含杂取代的碳环芳基的材料基本不可与所述一种或多种树脂混合。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述一种或多种基本不可混合的材料含有包含杂取代的碳环芳基的树脂。

4.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述一种或多种基本不可混合的树脂包含杂取代的多环碳环芳基。

5.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述一种或多种基本不可混合的树脂包含羟基萘基。

6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述一种或多种基本不可混合的材料包含一种或多种氟基团或氟取代的基团。

7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，所述一种或多种基本不可混合的材料包含可溶于碱水溶液中的基团和/或一种或多种光酸不稳定的基团。

8.一种处理光刻胶组合物的方法，包括：

(a)在基材上施涂光刻胶组合物，其包含：

(i)一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)一种或多种包含杂取代的碳环芳基的材料；以及

(b)使光刻胶层浸没式曝光于使该光刻胶组合物活化的辐射下。

9.一种涂敷的基材体系，该体系包括：

在其上具有以下物质的基材：

光刻胶组合物的涂层，所述光刻胶组合物包含：

(i)一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)一种或多种包含杂取代的碳环芳基的材料。

10.如权利要求9所述的体系，其中，浸没式光刻胶液与所述光刻胶涂料层的顶面接触，和/或该体系进一步包含浸没式光刻曝光工具。

11.一种光刻胶组合物，包含：

(i)一种或多种树脂，

(ii)光活性组分，和

(iii)一种或多种包含杂取代的碳环芳基以及与一种或多种树脂不同的并且不与一种或多种树脂混合的材料。