[发明专利]标本处理系统、底座及标本处理装置

权利要求书

1.一种标本处理系统，包括：

运送标本的运送装置；

沿所述运送装置的运样方向配置、对所述运送装置所运标本进行处理的数台标本处理装置；

承载所述数台标本处理装置的底座；及

为了至少改变该标本处理装置的方向而允许在所述底座上移动所述标本处理装置、同时限制该标本处理装置移动范围的移动限制部件。

2.权利要求1所述标本处理系统，其特征在于：

所述移动限制部件在所述底座上还允许所述标本处理装置向排列方向移动，同时又限制移动范围。

3.权利要求1所述标本处理系统，其特征在于：

所述移动限制部件限制移动范围，使所述标本处理装置可以在所述底座上移动和旋转到从平面看所述标本处理装置的一部分从所述底座上突出出来而不从该底座脱落的范围。

4.权利要求1所述标本处理系统，其特征在于：

所述标本处理装置包含便于其在所述底座上移动的助移部件。

5.权利要求1所述标本处理系统，其特征在于：还包括一种限制所述标本处理装置从所述底座倾斜的防倾斜部件，

其中，当所述标本处理装置移动到所述标本处理装置的一部分从所述底座突出的位置时，所述防倾斜部件限制所述标本处理装置从所述底座倾斜。

6.权利要求5所述标本处理系统，其特征在于：所述防倾斜部件的高度小于所述助移部件的高度。

7.权利要求1所述标本处理系统，其特征在于：所述底座包括：

第一固定部件，用于将各所述数台标本处理装置固定于所述数台标本处理装置可分别取到所述运送装置所运标本的第一取样位；及

第二固定部件，用于将各所述数台标本处理装置固定于可取到所述运送装置所运标本的、与所述第一取样位不同的第二取样位。

8.权利要求1所述标本处理系统，其特征在于：

所述移动限制部件包含配置在所述底座上的限制件，

其中，所述限制件通过与所述标本处理装置的一部分接触来限制所述标本处理装置的移动范围。

9.权利要求8所述标本处理系统，其特征在于：所述限制件包括：

在所述底座上限制所述标本处理装置向与所述运送装置运样方向垂直的方向移动的第一导条；及

限制沿所述运样方向移动的第二导条。

10.权利要求9所述标本处理系统，其特征在于：

所述标本处理装置包含数个设在所述标本处理装置底面的、方便在所述底座上移动的助移部件，

其中，所述第一导条的长度比所述数个助移部件中的相邻的两个助移部件的间距长，

在所述标本处理装置能取入所述运送装置所运标本的状态下，所述相邻的两个助移部件配置在所述第一导条和所述运送装置之间。

11.权利要求10所述标本处理系统，其特征在于：

所述限制件含有数个第一导条，

所述数个第一导条分别对应于各所述数台标本处理装置配置，以便限制各所述数台标本处理装置的移动，

所述相邻第一导条的间距为转动所述标本处理装置时所述助移部件可通过的间距。

12.一种承载处理运送装置所运标本的数台标本处理装置的底座，它包含移动限制部件，该移动限制件在所述底座上，既为了至少改变该标本处理装置的方向而允许所述标本处理装置移动，又限制所述标本处理装置的移动范围。

13.权利要求12所述底座，其特征在于：

所述移动限制部件还允许在所述底座上所述标本处理装置向其排列方向移动，同时限制其移动范围。

14.权利要求12所述底座，其特征在于：

所述移动限制部件限制移动范围，使所述标本处理装置可以在所述底座上移动并旋转到从平面看所述标本处理装置的一部分从所述底座上突出而不从该底座脱落的范围。

15.权利要求12所述底座，还包括：

第一固定部件，用于将所述数台标本处理装置分别固定到所述数台标本处理装置可分别取入所述运送装置所运标本的第一取样位；及

第二固定部件，用于将所述数台标本处理装置分别固定到可取入所述运送装置所运标本的、且不同于第一取样位的第二取样位。