[发明专利]光学设备有效

专利信息
申请号: 200910252634.5 申请日: 2006-11-28
公开(公告)号: CN101713903A 公开(公告)日: 2010-05-26
发明(设计)人: 太田盛也 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03B13/36 分类号: G03B13/36;H04N5/225
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 康建忠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 设备
【权利要求书】:

1.一种光学设备,其包含:

信号发生器,其被配置成从来自摄像部件的输出中提取多个频带 中的信号,并从所提取的信号产生聚焦信号;

聚焦透镜;以及

控制器,其被配置成选择性地使用第一聚焦信号和第二聚焦信号 中的一个进行聚焦控制,使得聚焦信号接近最高值,

其特征在于,

所述第一聚焦信号和第二聚焦信号中的每一个都是通过合成第 一频带和低于第一频带的第二频带中的聚焦信号中的至少两个聚焦信 号形成的合成信号,所述第一频带是所述多个频带中的最高频带;

被合成以形成第二聚焦信号的第一频带中的聚焦信号与整个第 二聚焦信号的比率高于被合成以形成第一聚焦信号的第一频带中的聚 焦信号与整个第一聚焦信号的比率;以及

所述控制器通过确定当所述聚焦透镜在包括所述第一聚焦信号 达到所述最高值的位置的区域中往复运动预定次数时的对焦状态,来 执行第一对焦确定操作,并且此后通过确定当所述聚焦透镜在包括所 述第二聚焦信号达到所述最高值的位置的区域中往复运动预定多次时 的对焦状态,来执行第二对焦确定操作。

2.一种控制聚焦的方法,其包含:

信号产生步骤,从来自摄像部件的输出中提取多个频带中的信 号,并从所提取的信号中产生聚焦信号;以及

控制步骤,选择性地使用第一聚焦信号和第二聚焦信号中的一个 进行聚焦控制,使得聚焦信号接近最高值,

其特征在于,

所述第一和第二聚焦信号中的每一个都是通过合成第一频带和 低于第一频带的第二频带中的聚焦信号中的至少两个聚焦信号而形成 的合成信号,所述第一频带是所述多个频带中的最高频带;

被合成以形成第二聚焦信号的第一频带中的聚焦信号与整个第 二聚焦信号的比率高于被合成以形成第一聚焦信号的第一频带中的聚 焦信号与整个第一聚焦信号的比率;以及

所述控制步骤通过确定当所述聚焦透镜在包括所述第一聚焦信 号达到所述最高值的位置的区域中往复运动预定次数时的对焦状态, 来执行第一对焦确定操作,并且此后通过确定当所述聚焦透镜在包括 所述第二聚焦信号达到所述最高值的位置的区域中往复运动预定多次 时的对焦状态,来执行第二对焦确定操作。

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