[发明专利]振动校正设备、振动校正方法和成像装置

说明书

技术领域

本发明涉及振动(shake)校正设备、振动校正方法和成像装置，更特别 地，涉及有效地使用校正区域执行适当的振动校正。

背景技术

在现有技术中，在成像装置的振动校正机制中，通过位移(displace)校 正光学系统(例如，校正透镜)而不通过设备的振动移动光学图像在成像面 上的位置来校正振动。

在这样的振动校正机制中，如果变焦位置(zoom position)在广角端(wide side)而不是在远摄端(telephoto side)，则可使用校正透镜校正的光轴的角度 增加。此外，当各校正透镜的校正量相同时，在广角端使用校正透镜校正的 校正角度大于在远摄端使用校正透镜校正的校正角度。在广角端的大校正角 度指示成像光学系统的像差在广角端也增加，如在日本未审专利申请公开No. 5-66450(对应的美国专利：US5845156)中所述。因此，在日本未审专利申 请公开No.5-66450中，通过根据焦距限制校正透镜的位移范围，避免了当光 学像差大时的振动校正，使得改进了摇镜头(panning)可操作性。

在日本未审专利申请公开No.2-287423(对应的美国专利：US5243462) 中，当执行摇镜头/倾斜(tilting)操作时，在一个方向大量地位移校正光学系 统，使得避免大量地位移校正光学系统以及避免校正光学系统由于大的位移 而与透镜镜筒的内壁碰撞。在日本未审专利申请公开No.2-287423中，与透 镜的位置相应，相对于校正光学系统生成向心力，使得在不达到振动校正限 制的范围内执行振动校正。

此外，在日本未审专利申请公开No.2004-117418(对应的美国专利： US7209165)中，使用振动频率执行振动校正。在日本未审专利申请公开No. 2004-117418中，通过使用高通波段可变单元基于振动检测信号计算振动校正 信号，控制振动校正单元。当检测到振动校正控制范围内的高频时，优选地 执行高频的振动校正，使得由于高频波段的振动造成的拍摄图像的分辨率的 劣化减小。此外，如果检测到超过振动校正控制范围的高频，则高通波段可 变单元的高通波段逐渐从定义值向高通端偏移，使得可以不执行振动校正。 因此，停止振动校正，并且由于可以不执行振动校正控制的波段的高频振动 造成的拍摄图像的分辨率的劣化以及拍摄图像的扰动减小。

发明内容

如果使用用于将校正光学系统导向中心(centering)的控制单元，则生 成即使当振动大时也没有达到校正限制的向心力。在此情况下，如果振动的 幅度正常，则即使当不需要向心时，也生成根据透镜的位置的向心力。因此， 相对小振动的相机振动校正性能可能劣化。

此外，当通过使用高通波段可变单元基于振动检测信号计算振动校正信 号以便执行振动校正时，在现有技术中没有考虑的、由于在行走的同时的拍 摄者的动作造成的振动频率的低频分量可能由高通波段可变单元截止。如果 截止振动频率的低频分量，则即使当使用具有能够消除大振动操作的校正范 围的校正光学系统时，也难以执行用于有效地消除振动的控制。

希望提供一种振动校正设备、振动校正方法和成像装置，其能够使用校 正区域有效地执行适当的振动校正。

根据本发明的实施例，提供一种振动校正设备，包括：振动检测单元， 检测振动以便生成振动检测信号；驱动单元，相对于光轴位移透镜单元和成 像设备之间的相对位置关系，以便在所述成像面上位移在所述成像设备的成 像面上形成的光学图像的位置；位移检测单元，检测校正透镜单元或成像设 备的位移状态；滤波处理单元，执行所述振动检测信号的滤波处理；以及校 正控制单元，根据滤波处理的振动检测信号位移透镜单元和成像设备之间的 相对位置关系，以便校正由通过所述振动检测单元检测到的振动生成的在所 述成像面上的所述光学图像的振动，其中所述滤波处理单元根据由所述位移 检测单元检测到的位移状态改变滤波处理特性，并且随着检测的位移状态变 得接近位移限制而限制光学图像的振动校正。