[发明专利]流体喷射装置以及流体喷射装置的维护方法

权利要求书

1.一种流体喷射装置，其特征在于，具备：

流体喷射头，其在喷嘴形成面上形成有喷嘴；

第一盖罩装置，其具有通过以开口部包围所述喷嘴形成面的喷嘴的形 态被所述流体喷射头或支承该流体喷射头的支承体覆盖而成为密闭状态 的空间域；

第二盖罩装置，其具有通过被该第一盖罩装置覆盖开口部而成为密闭 状态的空间域；

维护装置，其以与所述流体喷射头对应的配置形态被容纳在该第二盖 罩装置的所述空间域内；

一齐移动机构，其使所述第二盖罩装置在所述维护装置处于靠近所述 流体喷射头的位置状态的维护位置、和所述维护装置处于远离所述流体喷 射头的位置状态的退避位置之间移动；和

第一盖罩装置移动机构，其使所述第一盖罩装置在位于所述维护位置 与所述退避位置之间的所述第二盖罩装置的移动路径上的干涉位置、和从 该干涉位置沿与所述第二盖罩装置的所述移动路径延伸的方向交叉的方 向远离的非干涉位置之间移动；

所述第一盖罩装置在所述干涉位置处，按压在随着所述一齐移动机构 的驱动而从所述退避位置向所述维护位置方向移动的所述第二盖罩装置 上来靠近所述流体喷射头。

2.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于，

所述第一盖罩装置具有引导部，其沿着基于所述一齐移动机构的所述 第二盖罩装置的移动方向设置。

3.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于，

所述流体喷射头对目标进行记录时，所述一齐移动机构使所述第二盖 罩装置移动到处于由位于所述干涉位置的所述第一盖罩装置堵塞所述第 二盖罩装置的所述开口部的位置状态的维护装置保湿位置。

4.根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于，

该流体喷射装置还具备个别移动机构，其使所述维护装置相对于所述 第二盖罩装置相对移动。

5.一种维护方法，其特征在于，包括：

第一盖罩装置移动步骤，使第一盖罩装置在干涉位置与非干涉位置之 间移动，所述第一盖罩装置具有通过以开口部包围形成在流体喷射头的喷 嘴形成面上的喷嘴的形态被所述流体喷射头或支承该流体喷射头的支承 体覆盖而成为密闭状态的空间域，所述干涉位置位于第二盖罩装置的维护 位置与退避位置之间的移动路径上，所述非干涉位置是从该干涉位置沿与 所述第二盖罩装置的所述移动路径延伸的方向交叉的方向远离的位置，所 述第二盖罩装置具有通过被所述第一盖罩装置覆盖开口部而成为密闭状 态的空间域，并且在该空间域内具备对所述流体喷射头进行维护的维护装 置，而且构成为在该维护装置处于靠近所述流体喷射头的位置状态的所述 维护位置、和处于远离所述流体喷射头的位置状态的所述退避位置之间移 动；和

第二盖罩装置移动步骤，使所述第二盖罩装置从所述退避位置向所述 维护位置方向移动，从而与位于所述干涉位置的所述第一盖罩装置抵接， 使该第一盖罩装置与所述第二盖罩装置一起沿着靠近所述流体喷射头的 方向移动。

6.一种流体喷射装置，其特征在于，具备：

流体喷射头，其在喷嘴形成面上形成有喷嘴；

多个维护装置，与该流体喷射头对应；

支承部件，其将该各维护装置支承为与所述流体喷射头对应的配置状 态；

一齐移动机构，其使该支承部件在所述各维护装置分别处于靠近对应 的所述流体喷射头的位置状态的维护位置、和所述各维护装置分别处于远 离对应的所述流体喷射头的位置状态的退避位置之间移动；和

个别移动机构，其在所述支承部件上使所述各维护装置按至少包括一 个维护装置而构成的每个维护装置组，沿着靠近或远离该维护装置组中包 含的维护装置所对应的流体喷射头的方向个别移动，

在所述支承部件位于所述退避位置的状态下，所述个别移动机构使所 述各维护装置组个别移动。

7.根据权利要求6所述的流体喷射装置，其特征在于，

在所述支承部件位于所述退避位置的状态下，所述个别移动机构使所 述各维护装置组个别移动之后，所述一齐移动机构使所述支承部件移动到 所述维护位置。