[发明专利]气体供应设备

权利要求书

1.气体供应设备，用于导引气体至一电浆辅助化学气相沉积系统的一工艺腔体，其特征在于，该气体供应设备包括：

一进气管，从该工艺腔体的外部进入该工艺腔体内；

一远程电浆源，连接一清洁气体源；

一清洁气体管，连接该进气管与该远程电浆源，用以将一清洁气体自该远程电浆源输入该进气管；

一工艺气体管，连接该进气管与一工艺气体源，用以将一工艺气体输入该进气管；以及

一调变阀，设置于该进气管中，用来关闭该清洁气体管与该进气管之间的通路，以避免该工艺气体导向该工艺腔体期间进入该清洁气体管。

2.如权利要求1所述的气体供应设备，其特征在于，该远程电浆源的频率在20MHz-100MHz之间。

3.如权利要求1所述的气体供应设备，其特征在于，该进气管位于该工艺腔体的中央±30％的位置。

4.如权利要求1所述的气体供应设备，其特征在于，该清洁气体管的管径大于该工艺气体管的管径。

5.如权利要求1所述的气体供应设备，其特征在于，该清洁气体管的管径为10mm-60mm。

6.如权利要求1所述的气体供应设备，其特征在于，该调变阀包括金属或不锈钢所制成的阀门。

7.如权利要求1所述的气体供应设备，其特征在于，该调变阀与该工艺腔体之间的距离为30mm-100mm。

8.如权利要求1所述的气体供应设备，其特征在于，该工艺气体是由B2H6、CO2、CO、GeH4、H2、He、N2O、PH3、SiH4、SiF4与SiH6组成的气体群中选择的一种气体或是以上气体的化合物或混合物。

9.如权利要求1所述的气体供应设备，其特征在于，该清洁气体是由Ar、H2、NF3与SF6组成的气体群中选择的一种气体或是以上气体的化合物或混合物。

10.如权利要求1所述的气体供应设备，其特征在于，该进气管更包括一陶瓷绝缘部，设于该工艺气体管以及该清洁气体管和该工艺腔体之间。