[发明专利]真空处理装置、真空处理系统和处理方法

权利要求书

1.一种真空处理装置，在真空状态下对被处理体实施规定的处理， 其特征在于，包括：

具有使被处理体搬入搬出的开口部的处理容器；

在所述处理容器的内部支承被处理体的载置台；和

向所述载置台供给气体的气体供给源，

所述载置台包括：

具有载置被处理体的载置面的载置台主体；

形成在所述载置面上的多个气体喷射孔；和

与所述气体喷射孔连通、形成在所述载置台主体的内部的气体流 路，

在通过以规定的压力从所述气体喷射孔向被处理体的背面喷射气 体，使被处理体从所述载置面浮起的状态下，在所述真空处理装置与 设置在所述处理容器的外部的真空搬送装置之间进行被处理体的交 接，

所述气体喷出孔被用作对载置在所述载置面上的被处理体传递所 述载置台的温度的热载体喷出孔。

2.一种真空处理系统，包括：

在真空状态对被处理体实施规定的处理的真空处理装置；和

与所述真空处理装置邻接设置、在真空条件下对被处理体进行搬 送的真空搬送装置，该真空处理系统的特征在于：

所述真空处理装置包括：

具有使被处理体搬入搬出的开口部的处理容器；

在所述处理容器的内部支承被处理体的载置台；和

向所述载置台供给气体的气体供给源，

所述载置台包括：

具有载置被处理体的载置面的载置台主体；

形成在所述载置面上的多个气体喷射孔；和

与所述气体喷射孔连通、形成在所述载置台主体的内部的气体流 路，

在通过以规定的压力从所述气体喷射孔向被处理体的背面喷射气 体，使被处理体从所述载置面浮起的状态下，在所述真空处理装置与 设置在所述处理容器的外部的真空搬送装置之间进行被处理体的交 接，

所述真空搬送装置包括：

具有用于搬送被处理体的搬送用开口的搬送容器；

设置在所述搬送容器内的搬送台；

分别设置在所述搬送台的两侧、沿搬送方向对被处理体进行引导 的一对引导装置；和

向所述搬送台供给气体的浮起用气体供给源，

所述搬送台包括：

台主体；

形成在所述台主体的上表面的多个浮起用气体喷射孔；和

与所述气体喷射孔连通的浮起用气体流路，

在通过以规定的压力从所述浮起用气体喷射孔向被处理体的背面 喷射浮起用气体，使被处理体从所述台主体的上表面浮起的状态下， 利用所述引导装置对被处理体进行引导，向所述真空处理装置搬入该 被处理体或者从所述真空处理装置搬出该被处理体。

3.如权利要求2所述的真空处理系统，其特征在于：

所述引导装置包括一边保持被处理体一边沿所述搬送台往复移动 的保持部件，在利用所述保持部件保持被处理体的状态下对被处理体 进行浮起搬送。

4.如权利要求3所述的真空处理系统，其特征在于：

所述保持部件包括夹持被处理体的夹紧装置。

5.如权利要求3所述的真空处理系统，其特征在于：

所述保持部件包括吸附被处理体的静电吸附装置。

6.如权利要求3至5中任一项所述的真空处理系统，其特征在于：

所述保持部件，以向处于浮起状态的被处理体的背面喷射的气体 朝着与被处理体的行进方向正交的方向形成从左右侧边逃逸的气体流 的方式支承被处理体。

7.如权利要求3至5中任一项所述的真空处理系统，其特征在于：

所述保持部件，以在被处理体处于浮起的状态下在与行进方向正 交的宽度方向的截面成为向下弯曲成凸状形状的方式支承被处理体。

8.如权利要求3至5中任一项所述的真空处理系统，其特征在于：

所述保持部件具有多个卡合部，利用所述卡合部对被处理体的一 个侧边的三处以上进行支承。