[发明专利]一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法有效
申请号: | 200910254668.8 | 申请日: | 2009-12-31 |
公开(公告)号: | CN101950082A | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
发明(设计)人: | 屈恩世;曹剑中;范哲源;周祚峰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 徐平 |
地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 增加 视场 相对 照度 均匀 方法 | ||
1.一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法,其特征在于:所述方法是改变光学系统的参数,使该光学系统发生负畸变。
2.根据权利要求1所述的增加大视场像面相对照度均匀性的方法,其特征在于:所述负畸变的值在5%~10%之间。
3.根据权利要求2所述的增加大视场像面相对照度均匀性的方法,其特征在于:所述光学系统的参数选自光学镜组的曲率半径、光阑的位置,镜片间隔、厚度以及材料。
4.根据权利要求3所述的增加大视场像面相对照度均匀性的方法,其特征在于:使光学成像保持负畸变后,再通过电子学校正的方法校正光学成像残留的畸变。
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