[发明专利]一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法有效

专利信息
申请号: 200910254668.8 申请日: 2009-12-31
公开(公告)号: CN101950082A 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: 屈恩世;曹剑中;范哲源;周祚峰 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 徐平
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 增加 视场 相对 照度 均匀 方法
【权利要求书】:

1.一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法,其特征在于:所述方法是改变光学系统的参数,使该光学系统发生负畸变。

2.根据权利要求1所述的增加大视场像面相对照度均匀性的方法,其特征在于:所述负畸变的值在5%~10%之间。

3.根据权利要求2所述的增加大视场像面相对照度均匀性的方法,其特征在于:所述光学系统的参数选自光学镜组的曲率半径、光阑的位置,镜片间隔、厚度以及材料。

4.根据权利要求3所述的增加大视场像面相对照度均匀性的方法,其特征在于:使光学成像保持负畸变后,再通过电子学校正的方法校正光学成像残留的畸变。

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