[发明专利]气体预纯化方法

权利要求书

1.一种除去进料气流中的杂质的方法，包括：使所述进料气流进入含有离子性液体的吸附容器。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述离子性液体选自下组：基于咪唑鎓、吡啶鎓、吡咯烷鎓、胍鎓、铵、磷鎓和锍的离子性液体、或它们的混合物。

3.如权利要求2所述方法，其特征在于，所述离子性液体具有以下结构：

阳离子

阴离子

等。

式中，R₁、R₂、R₃和R₄是不同的烷基和烯基且选自下组：氢和具有1-12个碳原子的直链或支链烷基和烯基。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，还包括在所述离子性液体中存在选自下组的胺：硫脲和氨基。

5.如权利要求3所述的方法，其特征在于，还包括将羟基引入所述阳离子中。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述进料气流是空气流。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，除去所述杂质后将所述进料气流引入低温蒸馏单元。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述杂质选自下组：二氧化碳、硫化氢、二氧化硫、氢、一氧化碳和烃类；所述烃类选自下组：丁烷、丙烯、乙炔、丙烷和乙烯。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述离子性液体涂布于基材表面上。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述离子性液体涂布于多孔性珠和团粒上或包封在多孔性珠和团粒中。

11.一种除去含杂质的进料气流中的杂质的方法，包括以下步骤：

a)将进料气流送入含有离子性液体的第一吸附容器，其中所述杂质从该进料气流中除去；

b)将不含杂质的进料气流中的一部分引入第二床，其中所述不含杂质的气流再生该第二床中的离子性液体；和

c)将不含杂质的进料气流的其余部分引入低温蒸馏单元。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述离子性液体选自下组：基于咪唑鎓、吡啶鎓、吡咯烷鎓、胍鎓、铵、磷鎓和锍的离子性液体、或它们的混合物。

13.如权利要求12所述方法，其特征在于，所述离子性液体具有以下结构：

阳离子

阴离子

等。

式中，R₁、R₂、R₃和R₄是不同的烷基和烯基且选自下组：氢和具有1-12个碳原子的直链或支链烷基和烯基。

14.如权利要求13所述的方法，其特征在于，还包括在所述离子性液体中存在选自下组的胺：硫脲和氨基。

15.如权利要求13所述的方法，其特征在于，还包括将羟基引入所述阳离子中。

16.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述杂质选自下组：二氧化碳、硫化氢、二氧化硫、氢、一氧化碳和烃类；所述烃类选自下组：丁烷、丙烯、乙炔、丙烷和乙烯。

17.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述离子性液体涂布于基材表面上。

18.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述离子性液体涂布于多孔性珠和团粒上或包封在多孔性珠和团粒中。

19.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述方法选自下组：压力摆动吸附、温度吸摆动附、真空摆动吸附、真空压力摆动吸附和浓度摆动吸附方法。

20.如权利要求19所述的方法，其特征在于，所述方法是循环进行的。