[发明专利]一种地板无效

专利信息
申请号: 200910258653.9 申请日: 2009-12-09
公开(公告)号: CN101839050A 公开(公告)日: 2010-09-22
发明(设计)人: 陈忠义;胡福涛 申请(专利权)人: 苏州工业园区科逸卫浴设备有限公司
主分类号: E04F15/02 分类号: E04F15/02;E03F5/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215132 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 地板
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种地板,尤其是涉及一种用于整体卫浴的地板。

背景技术

整体卫浴是将许多卫浴设施通过模压成型、配套安装等方式组合而成的卫浴间。浴缸、坐便器设计精巧,底板、天花板、浴室门一体安装,连化妆镜、照明灯具、换气扇、水嘴、纸卷器、毛巾架、浴巾架等小零碎也一应俱全;此外,一套整体卫浴间还包括完备的上、下水管道配件及成套安装零件。和传统卫浴相比,整体卫浴间主要有三大优点:(1)省事省时,整体厨卫装修到位,采用的是干法施工,无需砂子和水泥,只用螺钉、粘合剂即可,安装时间为半天到一天,大大缩短了施工周期;(2)防止渗漏,整体卫浴间的浴缸与底板一次模压成型,无拼接缝隙,从而根本解决了普通卫生间地面易渗漏水这一曾困扰许多家庭的问题;(3)材质优良,整体卫浴间的底板、墙板、天花板、浴缸等大都采用SMC复合材料制成,SMC是飞机和宇宙飞船专用的材料,具有材质紧密、表面光洁、隔热保温、防老化及使用寿命长等优良特性。

现有技术下,整体卫浴存在下列问题:一方面当进行沐浴时,会造成整个浴室的地面都是积水,最后再慢慢等待水从地漏中慢慢流出,水流缓慢,影响洗浴时的舒适度和洗浴后浴室的整洁;另一方面浴室地板较光滑,人直接踩在上面进行洗浴会有滑倒的危险。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明提供了一种无积水、安全舒适的地板。

为实现上述目的,本发明提供了一种地板,用于整体浴室,包括第一地板和与第一地板一体设置的第二地板,第一地板的上表面低于第二地板的上表面,第一地板上还设置有复数个用于防滑和按摩的凸起,第一地板上设置有地漏。

更优的,第一地板的形状为椭圆形,形状美观。

更优的,第一地板还设置有一个倾斜设置的连接板,连接板一端与第一地板相连接,另一端与第二地板的相连接,设置了连接板后便于第二地板上的水流入第一地板,使第二地板无积水,另一方面,倾斜设置的连接板形成一个缓冲地带,避免了人员在走动过程中被第一地板和第二地板间形成的台阶绊倒,第一地板、连接板、第二地板一体设置。

更优的,凸起的横截面形状为圆形,圆形的设计使产品无棱角,避免了人员踩在上面被棱角割伤。

更优的,地漏设置在临近第一地板与第二地板的连接处,第二地板上流入的水能最快的流入地漏中,减少第一地板处的积水。

本发明一种地板的有益效果是:1、使用不等高的两块地板进行拼接,能保证较高处的地板不积水,避免了因为沐浴导致整个整体卫浴去都充满积水;2、第一地板上设置了复数个了凸起,不仅能防止滑倒,而且可以起到按摩的作用。

附图说明

图1为本发明地板实施例的俯视图。

图中

1-第一地板,2-第二地板,3-地漏,4-连接板,5-凸起。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。以下详述本发明的工作原理。

如附图1所示,一种地板,用于整体浴室,包括第一地板1和与第一地板1一体设置的第二地板2,其中第一地板1的形状为椭圆形,使用不等高的两块地板进行拼接,能保证较高处的地板处不积水,避免了因为沐浴导致整体卫浴都充满积水。

第一地板1的上表面低于第二地板2的上表面,第一地板1还设置有一个倾斜设置的连接板4,连接板4一端与第一地板1相连接,另一端与第二地板2的相连接,水可以沿着连接板4将第二地板2上的积水引入第一地板1上,第一地板1、连接板4、第二地板2一体设置,工艺简单,防止渗漏。

第一地板1上还设置有复数个用于防滑和按摩的凸起5,凸起5的横截面形状为圆形,凸起5的设置不仅能防止滑倒,而且可以起到按摩的作用。

第一地板1上设置有地漏3,地漏3设置在临近第一地板1与第二地板2的连接处,第二地板2上流到第一地板1上的水能最快的流入地漏3中,减少第一地板1处的积水。

第一地板1用于沐浴,当沐浴时,莲蓬头流下的水直接流在第一地板1上,少量的水会飞溅到第二地板2上,流到第一地板1上的水直接从地漏3中流走,而不会流入第二地板2,第二地板2上的水通过连接板4流到第一地板1上,通过地漏3流走。

以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内,可不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

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