[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种减小浸没式光刻设备中的大致圆形衬底的圆周形边缘和衬底 台的表面的内边缘之间的间隙的方法，所述衬底台配置成支撑衬底，所述 方法包括步骤：

通过将边缘构件定位在所述间隙中来减小所述间隙，所述间隙基于所 述衬底的被测量的物理性质而被减小。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括步骤：

将所述衬底加载到预对准器上；和

测量所述预对准器中的衬底的物理性质。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括步骤：

将所述衬底的所测量的物理性质发送到与所述衬底台相关联的间隙 减小机构；

将所述衬底加载到由所述衬底台的表面的内边缘所限定的空间中；和

使用所述间隙减小机构，基于所述衬底的所测量的物理性质来减小所 述衬底的圆周形边缘和所述衬底台的表面的内边缘之间的所述间隙。

4.根据权利要求1所述的方法，包括步骤：

测量衬底的物理性质的步骤，所述测量衬底的物理性质的步骤包括： 检测所述衬底的圆周形边缘以便确定所述衬底的横截面尺寸。

5.根据权利要求1所述的方法，包括步骤：

测量所述衬底的所述物理性质的步骤，所述测量所述衬底的所述物理 性质的步骤包括：检测所述衬底的圆周形边缘相对于特定位置的位置。

6.根据权利要求5所述的方法，其中

所述特定位置是衬底上的标记。

7.根据权利要求1所述的方法，包括步骤：

测量所述衬底的所述物理性质的步骤，所述测量所述衬底的所述物理 性质的步骤包括：测量所述衬底的形状。

8.根据权利要求1所述的方法，包括步骤：测量所述衬底的所述物 理性质的步骤，所述测量衬底的物理性质包括测量从衬底的中心到衬底的 圆周形边缘的距离的范围。

9.根据权利要求2所述的方法，包括步骤：

将所述衬底加载到由包括所述衬底台的表面的内边缘限定的空间中； 和

使用间隙减小机构，基于所述测量结果来减小所述衬底的圆周和所述 衬底台的表面的内边缘之间的间隙。

10.根据权利要求1所述的方法，其中减小所述间隙的步骤包括：相 对于所述衬底台的表面的内边缘定位所述衬底，使得所述衬底的圆周形边 缘和所述衬底台的表面的内边缘之间的所述间隙被最小化。

11.根据权利要求1所述的方法，还包括步骤：将边缘构件定位在所 述间隙中，一旦所述边缘构件被定位在所述间隙中，则将边缘构件夹持到 适当位置中。

12.根据权利要求11所述的方法，其中定位所述边缘构件的步骤包 括：将其内侧横截面尺寸减小到基本上与所述衬底的横截面尺寸相同的大 小。

13.根据权利要求11至12中任一项所述的方法，其中所述边缘构件 是可压缩的，并且定位所述边缘构件的步骤包括：挤压所述边缘构件使得 所述边缘构件的横截面尺寸被减小。

14.根据权利要求11所述的方法，其中所述边缘构件包括多个弧形 段，并且定位所述边缘构件的步骤包括：将所述多个弧形段朝向彼此移动 以减小所述边缘构件的中心和所述边缘构件的边缘之间的距离。

15.根据权利要求11所述的方法，其中所述边缘构件包括基本上刚 性的环，且所述定位所述边缘构件的步骤包括：在与衬底相同的平面内偏 心地移动所述边缘构件，使得所述边缘构件的一部分和衬底的一部分之间 的间隙随时间变化。

16.根据权利要求11所述的方法，其中所述边缘构件包括弧形段， 且定位所述边缘构件的步骤包括：围绕所述衬底的周边移动所述段，使得 所述段所邻近的所述衬底边缘部随时间变化。