[发明专利]一种复合原子氧防护涂层SiOx/PTFE的制备方法无效
| 申请号： | 200910259347.7 | 申请日： | 2009-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN101724823A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 李中华;郑阔海;赵琳 | 申请（专利权）人： | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 张利萍 |
| 地址： | 730000*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 复合 原子 防护 涂层 sio sub ptfe 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种复合原子氧防护涂层SiOx/PTFE的制备方法，其特征在于：
(1)制备圆形的SiO2靶；
(2)制备与SiO2靶同直径、扇形的PTFE片状材料；
(3)用导电胶将PTFE片状材料均匀粘贴在SiO2靶上；
(4)将(3)制备的SiO2/PTFE复合靶安装在磁控溅射设备的靶座上，磁控溅射设备抽真空至2×10-3Pa，然后通入Ar气，开启磁控溅射靶电源，靶面产生辉光放电，Ar离子流对SiO2/PTFE靶进行轰击，从靶面溅射出SiOx和PTFE，沉积在涂层基底上，得到SiOx/PTFE复合原子氧防护涂层。
2.根据权利要求1所述的一种复合原子氧防护涂层SiOx/PTFE的制备方法，其特征在于：步骤(1)中SiO2的纯度为99.9％。
3.根据权利要求1所述的一种复合原子氧防护涂层SiOx/PTFE的制备方法，其特征在于：步骤(2)中PTFE的片数为2～4片，扇形角为10°。
4.根据权利要求1所述的一种复合原子氧防护涂层SiOx/PTFE的制备方法，其特征在于：步骤(4)中磁控溅射的沉积放电功率为100～120W，放电气压为4×10-1～5×10-1Pa，溅射时间为60～80min。
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