[发明专利]等离子基板图层的涂覆方法和装置无效
| 申请号： | 200910259371.0 | 申请日： | 2009-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN101728152A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 赵之明;田玉民;宋利建 | 申请（专利权）人： | 四川虹欧显示器件有限公司 |
| 主分类号： | H01J9/20 | 分类号： | H01J9/20 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚 |
| 地址： | 621000 四川省绵阳市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子 基板图层 方法 装置 | ||
1.一种等离子基板图层的涂覆方法，其特征在于，包括：
在所述等离子基板上设置一层掩模，其中，所述掩模具有与所述待涂覆的图案相同的镂空结构；
将浆料涂覆在带有所述掩模的等离子基板上；
将所涂覆的浆料进行干燥；
将所述掩模从所述等离子基板上去除。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩模为胶带或塑料膜。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述胶带为热失效胶带。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩模的厚度T＜A+B，其中，A表示所需涂覆在所述等离子基板上的浆料的厚度，B表示用于涂覆所述浆料的喷嘴与由所述浆料形成的湿膜之间的间隙。
5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述等离子基板上设置一层掩模的步骤包括：
将所述胶带缠绕在滚轮上；
通过滚轮将所述胶带粘在等离子基板上，形成所述一层掩模。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将浆料涂覆在带有所述掩模的等离子基板上的步骤包括：
通过喷嘴将所述浆料连续喷涂在所述等离子基板上。
7.一种等离子基板图层的涂覆装置，其特征在于，包括：
掩模设置部件，用于在所述等离子基板上设置一层掩模，其中，所述掩模具有与所述待涂覆的图案相同的镂空结构；
涂覆部件，用于将浆料涂覆在带有所述掩模的等离子基板上；
干燥部件，用于将所涂覆的浆料进行干燥；
去除部件，用于将所述掩模从所述等离子基板上去除。
8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述掩模为胶带或塑料膜。
9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述胶带为热失效胶带。
10.根据权利要求8或9所述的装置，其特征在于，所述掩模的厚度T＜A+B，其中，A表示所需涂覆在所述等离子基板上的浆料的厚度，B表示用于涂覆所述浆料的喷嘴与由所述浆料形成的湿膜之间的间隙。
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