[发明专利]超分辨率光学成像装置与方法无效

专利信息
申请号: 200910259937.X 申请日: 2009-12-23
公开(公告)号: CN101866060A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: 何浩培;杨涛;李千秋;黄维;蔡潮盛 申请(专利权)人: 南京邮电大学;香港中文大学
主分类号: G02B27/58 分类号: G02B27/58
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 叶连生
地址: 210046 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 分辨率 光学 成像 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种超分辨率光学成像装置,其特征在于该成像装置由基底(2)构成,所述基底(2)上设置凹槽(1),凹槽(1)边缘正上方的入射光束分别通过凹槽(1)与凹槽(1)边缘,凹槽(1)的深度使得所述通过凹槽(1)的光束与通过凹槽(1)边缘的光束发生相消干涉,使得靠近凹槽(1)边缘的光因为相消干涉而在一定程度上不能直接透过该装置。

2.一种超分辨率光学成像装置,其特征在于该成像装置由基底(2)构成,所述基底(2)上设置台阶(3),台阶(3)边缘正上方的入射光束分别通过台阶(3)与台阶(3)边缘,台阶(3)的深度使得所述通过台阶(3)的光束与通过台阶(3)边缘的光束发生相消干涉,使得靠近台阶(3)边缘的光经过所述相消干涉而在一定程度上不能直接透过该装置。

3.根据权利要求1所述的超分辨率光学成像装置,其特征在于所述基底(2)所用的材料为透光材料。

4.根据权利要求2所述的超分辨率光学成像装置,其特征在于所述基底(2)所用的材料为透光材料。

5.根据权利要求2所述的超分辨率光学成像装置,其特征在于所述台阶(3)所用的材料为透光材料。

6.根据权利要求1所述的超分辨率光学成像装置的成像方法,其特征在于位于所述超分辨率光学成像装置上方的成像物体发出的光束被汇聚在凹槽(1)上,由于衍射极限、互相重叠形成一个像点;位于凹槽(1)正上方的光束投射到凹槽(1)底面的中部通过底面;其它光束一半通过凹槽(1)底面,一半通过基底(2)边缘,经由凹槽(1)底面与基底(2)边缘的光束在基底(2)发生自混合干涉相消,取得位于凹槽(1)正上方的超分辨率样品图像。

7.根据权利要求2所述的超分辨率光学成像装置的成像方法,其特征在于位于所述超分辨率光学成像装置上方的成像物体发出的光束被汇聚在台阶(3)上,由于衍射极限、互相重叠形成一个像点;位于台阶(3)正上方的光束通过台阶(3)投射到基底(2)底面;其它光束一半通过台阶(3)表面,一半通过基底(2)边缘,经由台阶(3)表面与基底(2)边缘的光束在基底(2)发生自混合干涉相消,取得位于台阶(3)正上方的超分辨率样品图像。

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