[发明专利]光刻设备和辐射至少两个目标部分的方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

台；

至少两个目标部分，所述至少两个目标部分位于所述台上或者位于所述台上的物体上，在所述至少两个目标部分之间设置有表面材料；

光学系统，所述光学系统配置用于沿着光路朝向所述台投影辐射束，所述辐射束的横截面能够同时辐射所述至少两个目标部分；和

屏蔽件，所述屏蔽件可移动入所述光路中，以限制辐射束的横截面，从而限制所述至少两个目标部分之间的照射，其中，在所述至少两个目标部分之间的所述表面材料在被来自所述光学系统的辐射所辐射时将产生劣化、或变形、或者劣化和变形两者。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述屏蔽件位于辐射束中支撑结构的上游，所述支撑结构配置用于支撑图案形成装置，以将图案赋予辐射束的横截面中。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其中，所述屏蔽件包括框架构件，所述框架构件用于在辐射衬底过程中限制辐射束的横截面。

4.根据权利要求3所述的设备，其中，所述框架构件在其中具有孔，以允许辐射从其中穿过到达所述至少两个目标部分中的至少一个。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述光学系统包括照射系统和投影系统，其中，所述屏蔽件位于光路中的中间焦平面处并且在照射系统之前、照射系统中、照射系统和投影系统之间、在投影系统中或在投影系统之后。

6.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述至少两个目标部分中的至少一个与当被来自于所述光学系统的辐射所辐射时发生劣化的区域相邻。

7.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述至少两个目标部分是传感器的一部分。

8.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，在所述至少两个目标部分之间的表面是疏液的，其在被来自所述光学系统的辐射进行扩展照射时具有减小的接触角。

9.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，在所述至少两个目标部分之间存在涂层。

10.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述屏蔽件配置用于阻挡辐射束的横截面的一部分。

11.一种用于辐射光刻设备中的台的或台上的物体的至少两个目标部分的方法，其中在所述至少两个目标部分之间的表面材料在受辐射时劣化，所述方法包括步骤：

朝向所述目标部分投影辐射束，所述辐射束具有足够大的横截面以同时辐射所述至少两个目标部分；和

限制所述辐射束的横截面，以限制在所述至少两个目标部分之间的表面材料的照射。

12.一种用于辐射光刻设备中的台的或台上的物体的至少两个目标部分的方法，其中在所述至少两个目标部分之间的表面材料在被辐射时产生变形，所述方法包括步骤：

朝向所述目标部分投影辐射束，所述辐射束具有足够大的横截面以同时辐射所述至少两个目标部分；和

限制所述辐射束的横截面，以限制在所述至少两个目标部分之间的表面材料的照射。

13.一种框架构件，所述框架构件配置用于限制光刻设备的光学系统中的辐射束的横截面，所述框架构件在其中具有孔，以允许辐射从中通过，所述孔位于所述框架构件的一部分中，而不需要在对衬底的成像过程中限制辐射束的横截面。

14.一种光刻设备，包括：

台；

光学系统，所述光学系统配置用于沿着光路朝向所述台投影辐射束；

目标部分，所述目标部分位于所述台上或位于由所述台支撑的物体上，其中，一表面材料与所述目标部分相邻，所述表面材料在被来自所述光学系统的辐射所辐射时是可劣化的；和

框架构件，所述框架构件构造和布置用于能够移动入所述光路中，所述框架构件具有穿过所述框架构件的主体的开口，其中，当所述框架构件位于所述光路中时，辐射束通过所述开口，且所述开口配置用于限制辐射束的横截面，以限制辐射束对所述目标部分的辐射。

15.一种用于辐射位于台上或由所述台支撑的物体上的目标部分的方法，一表面材料与所述目标部分相邻，所述表面材料在受辐射时是可劣化的，所述方法包括步骤：

朝向所述目标部分投影辐射束；和

移动框架构件进入辐射束的路径中，以使得辐射束的横截面由限定在所述框架构件中的开口所限制，以限制辐射束对所述目标部分的辐射。