[发明专利]改性聚合物材料表面相互作用的方法和工艺

权利要求书

1.一种提供应用于两步刻印方法中的用于将图案从防粘附压模转印到IPS上并采用所述图案化的IPS作模板而将图案转印到基底物抗蚀剂的表面上的可光聚合的IPS材料的方法，所述IPS材料含有能够引发聚合的光引发剂或催化剂、可聚合的单-或多官能团单体和用在固化时能够以共价键键接至所述抗蚀剂的官能团完全或部分封端的氟表面活性剂。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述全氟化氟表面活性剂浓度在0％～30％的范围内，而所述氟表面活性剂是表面活性的，意指氟表面活性剂的所述浓度在表面/界面区域附近显著更高，而所述材料通过低粘附功和不可忽略的界面能进行表征。

3.根据权利要求1和2所述的方法，其中所述未固化的IPS材料含有可聚合的单-或多官能团丙烯酸酯(盐)基单体和至少一种自由基光引发剂。

4.根据权利要求1和2所述的方法，其中所述未固化的IPS抗蚀剂制剂是杂混物，含有可聚合单-或多官能团丙烯酸酯(盐)单体、可聚合的单或多官能团环氧化物和至少一种自由基光引发剂，以及至少一种阳离子型光引发剂，所述杂混物在进行光子辐照之后形成含有聚合的丙烯酸酯(盐)和环氧化物互穿网络的杂混材料。

5.根据权利要求1和2所述的方法，其中所述未固化的IPS抗蚀剂制剂是杂混物，含有可聚合的单-或多官能团丙烯酸酯(盐)单体，可聚合的单-或多官能团的乙烯基醚和至少一种自由基光引发剂，以及至少一种阳离子型光引发剂，所述杂混物在进行光子辐照之后形成含有共聚的丙烯酸酯(盐)和乙烯基醚以及乙烯基醚这两种互穿网络的杂混材料。

6.根据权利要求1和2所述的方法，其中所述氟表面活性剂是具有Y_p-X-CF₂CF₂O(CF₂F₂O)_m(CF₂O)_nCF₂CF₂-X-Y_p结构的PFPE共聚物，其中X是脂族聚氨酯嵌段，Y是丙烯酸酯(盐)或甲基丙烯酸酯(盐)，m和n是整数，而p等于1、2或3，共聚物的PFPE部分的分子量为800～2500g/mol。

7.根据权利要求1、2、4、5和6所述的方法，其中X是脂族共聚物嵌段，而所述材料是含有丙烯酸酯(盐)和环氧化物互穿网络，或丙烯酸酯(盐)和乙烯基醚互穿网络的杂混物。

8.根据权利要求1和2所述的方法，其中所述氟表面活性剂是具有以下结构的FSO 100丙烯酸酯：

其中x是0～6的整数，包括0和6；而y是0～15的整数，包括0和15。

9.根据权利要求1和2所述的方法，其中所述氟表面活性剂是FSO 100或FSO 100共价键键接至所述固化的材料的衍生物。

10.根据权利要求1～9所述的方法，其中所述IPS/基底物抗蚀剂界面的粘附功小于65mJ/m²(优选小于30mJ/m²)，而所述聚合物模具/复制件界面的界面能大于1mJ/m²(优选大于4mJ/m²)。

11.根据权利要求1～10所述的方法，其中所述分子用于纳米刻印光刻技术应用中。

12.一种用于提供适用于两步刻印方法中用于将图案从未进行表面处理的压模转印到IPS上并采用所述图案化的IPS作模板而将图案转印到基底物抗蚀剂的表面上的可光聚合的IPS材料的方法，所述IPS材料包含能够引发聚合的光引发剂或催化剂、可聚合的单-或多官能团丙烯酸酯(盐)、环氧化物或乙烯基物、以及通过固化时能够以共价键键接至所述抗蚀剂的丙烯酰基、环氧基或乙烯基官能团完全或部分封端的硅氧烷。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述含分子的硅树脂的重量浓度高于40％，而所述IPS/基底物抗蚀剂界面的粘附功小于65mJ/m²(优选小于30mJ/m²)，而所述聚合物模具/复制件界面的界面能大于1mJ/m²(优选大于4mJ/m²)。