[发明专利]化学增幅正性抗蚀剂组合物无效
申请号: | 200910261381.8 | 申请日: | 2009-12-23 |
公开(公告)号: | CN101770173A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 宫川贵行;山本敏;藤裕介 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;张英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 增幅 正性抗蚀剂 组合 | ||
1.一种化学增幅正性抗蚀剂组合物,包含:含有在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元的树脂、以及产酸剂,其中,基于所有的结构单元的总摩尔量,所述树脂包含按摩尔计40%至90%的所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元,并且所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元包含由式(I)表示的结构单元:
其中,R1代表氢原子或甲基基团,Z代表单键或-(CH2)k-CO-O-,k代表1至4的整数,R2在各种情况下独立地是C1-C6烷基基团,以及m代表0至14的整数。
2.根据权利要求1所述的化学增幅正性抗蚀剂组合物,其中,基于所有的结构单元的总摩尔量,所述树脂包含按摩尔计50%至70%的所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元。
3.根据权利要求1所述的化学增幅正性抗蚀剂组合物,其中,除了由式(I)表示的结构单元以外,所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元进一步包含由式(II)表示的结构单元,条件是由式(II)表示的结构单元与由式(I)表示的单元不同,
其中,R3代表氢原子或甲基基团,Z1代表单键或-(CH2)j-CO-O-,j代表1至4的整数,R4代表C1-C8烷基基团或C3-C8环烷基基团,以及环Z2代表未取代或取代的C3-C30环状烃基团。
4.根据权利要求1所述的化学增幅正性抗蚀剂组合物,其中,所述树脂进一步包含由式(IV)表示的结构单元:
其中,R12代表氢原子或甲基基团,Z3代表单键或-(CH2)j-CO-O-,i代表1至4的整数,以及环Z4代表在环结构中具有-CO-O-的未取代或取代的C3-C30环状烃基团。
5.根据权利要求1所述的化学增幅正性抗蚀剂组合物,其中,所述产酸剂是由式(V)表示的产酸剂:
其中,Y1和Y2每一个独立地代表氟原子或C1-C6全氟烷基基团,R40代表可以具有选自由C1-C6烷氧基基团、C1-C4全氟烷基基团、C1-C6羟烷基基团、羟基基团以及氰基基团组成的组中的至少一种的C1-C36烃基团,并且所述烃基团中的一个或多个-CH2-可以被-CO-、-O-或-COO-代替,以及A+代表有机抗衡离子。
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