[发明专利]化学增幅正性抗蚀剂组合物无效

专利信息
申请号: 200910261381.8 申请日: 2009-12-23
公开(公告)号: CN101770173A 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 宫川贵行;山本敏;藤裕介 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明;张英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 化学 增幅 正性抗蚀剂 组合
【权利要求书】:

1.一种化学增幅正性抗蚀剂组合物,包含:含有在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元的树脂、以及产酸剂,其中,基于所有的结构单元的总摩尔量,所述树脂包含按摩尔计40%至90%的所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元,并且所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元包含由式(I)表示的结构单元:

其中,R1代表氢原子或甲基基团,Z代表单键或-(CH2)k-CO-O-,k代表1至4的整数,R2在各种情况下独立地是C1-C6烷基基团,以及m代表0至14的整数。

2.根据权利要求1所述的化学增幅正性抗蚀剂组合物,其中,基于所有的结构单元的总摩尔量,所述树脂包含按摩尔计50%至70%的所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元。

3.根据权利要求1所述的化学增幅正性抗蚀剂组合物,其中,除了由式(I)表示的结构单元以外,所述在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元进一步包含由式(II)表示的结构单元,条件是由式(II)表示的结构单元与由式(I)表示的单元不同,

其中,R3代表氢原子或甲基基团,Z1代表单键或-(CH2)j-CO-O-,j代表1至4的整数,R4代表C1-C8烷基基团或C3-C8环烷基基团,以及环Z2代表未取代或取代的C3-C30环状烃基团。

4.根据权利要求1所述的化学增幅正性抗蚀剂组合物,其中,所述树脂进一步包含由式(IV)表示的结构单元:

其中,R12代表氢原子或甲基基团,Z3代表单键或-(CH2)j-CO-O-,i代表1至4的整数,以及环Z4代表在环结构中具有-CO-O-的未取代或取代的C3-C30环状烃基团。

5.根据权利要求1所述的化学增幅正性抗蚀剂组合物,其中,所述产酸剂是由式(V)表示的产酸剂:

其中,Y1和Y2每一个独立地代表氟原子或C1-C6全氟烷基基团,R40代表可以具有选自由C1-C6烷氧基基团、C1-C4全氟烷基基团、C1-C6羟烷基基团、羟基基团以及氰基基团组成的组中的至少一种的C1-C36烃基团,并且所述烃基团中的一个或多个-CH2-可以被-CO-、-O-或-COO-代替,以及A+代表有机抗衡离子。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社,未经住友化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910261381.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top