[发明专利]显影装置、处理盒以及成像设备有效
申请号: | 200910261677.X | 申请日: | 2007-06-22 |
公开(公告)号: | CN101763012A | 公开(公告)日: | 2010-06-30 |
发明(设计)人: | 西田真一;楸原一成;清水康史;横山胜则;吉岛直人;宇佐美博一 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显影 装置 处理 以及 成像 设备 | ||
1.一种用于成像设备的显影装置,包括:
显影剂承载构件,其能够承载显影剂,用于显影形成于图像承 载构件上的静电潜像;
保持构件,其具有凹入部分,所述凹入部分沿着所述显影剂承 载构件的纵向设置,所述凹入部分具有底面和位于其横向上的两端 处的侧面;和
片状调节构件,其与所述显影剂承载构件接触并能够调节由所 述显影剂承载构件承载的显影剂的量,所述片状调节构件包括:
第一接触部分,其由所述凹入部分支撑在所述片状调节构 件的在横向上的一端侧处,所述第一接触部分具有第一平表面部分 和与所述第一平表面部分相交的第一端面部分;
第二接触部分,其由所述凹入部分支撑在所述调节构件的 在横向上的另一端侧处,所述第二接触部分具有第二平表面部分和 与所述第二平表面部分相交的第二端面部分;和
第三接触部分,其在所述调节构件的横向上在所述第一接 触部分和所述第二接触部分之间与所述显影剂承载构件进行接触,
其中,通过由沿着所述调节构件的纵向在横向上弯曲的所述调 节构件产生的弹性力,或者通过由与所述显影剂承载构件接触的所 述第三接触部分产生的弹性力,所述第一平表面部分和所述第二平 表面部分与所述侧面接触并由所述侧面支撑,并且
其中,通过从所述显影剂承载构件接收的由于所述第三接触部 分与所述显影剂承载构件进行接触而产生的力,所述第一端面部分 和所述第二端面部分与所述底面接触并由所述底面支撑。
2.根据权利要求1所述的显影装置,其中,在所述显影剂承载 构件的运动方向上的下游侧处,保持以下表达式(1)成立:
S<h≤R (1)
其中,h是从所述凹入部分的所述显影剂承载构件的运动方向上 的下游侧的内壁到所述显影剂承载构件的表面之间的最短距离,S是 由所述调节构件调节的显影剂层的厚度,R是在所述调节构件未与所 述显影剂承载构件接触的状态下,沿着纵向在横向上弯曲的所述调 节构件产生的曲率半径。
3.根据权利要求1所述的显影装置,其中,在所述显影剂承载 构件的运动方向上的下游侧处,保持以下表达式(2)成立:
S<h≤0.8×R (2)
其中,h是从所述凹入部分的所述显影剂承载构件的运动方向上 的下游侧的内壁到所述显影剂承载构件的表面之间的最短距离,S是 由所述调节构件调节的显影剂层的厚度,R是在所述调节构件未与所 述显影剂承载构件接触的状态下,沿着纵向在横向上弯曲的所述调 节构件产生的曲率半径。
4.根据权利要求1所述的显影装置,其中,在所述显影剂承载 构件的运动方向上的下游侧处,保持以下表达式(3)成立:
S<h≤2×t (3)
其中,h是从所述凹入部分的所述显影剂承载构件的运动方向上 的下游侧的内壁到所述显影剂承载构件的表面之间的最短距离,S是 由所述调节构件调节的显影剂层的厚度,t是所述片状调节构件的厚 度。
5.根据权利要求1所述的显影装置,其中,显影剂包含磁性物 质,所述显影剂承载构件中具有磁体,并且所述保持构件由非磁性 物质组成。
6.根据权利要求1所述的显影装置,其中,所述保持构件被设 置成形成所述显影装置的显影剂容器的一部分。
7.根据权利要求1所述的显影装置,其中,所述第三接触部分 沿着所述显影剂承载构件的表面改变其形状,并与所述显影剂承载 构件的表面接触。
8.根据权利要求1所述的显影装置,还包括设置在所述显影剂 承载构件的在纵向上的一端侧和另一端侧上的密封构件,防止显影 剂泄漏到所述显影装置外部的所述密封构件将所述调节构件压到所 述凹入部分上,并控制所述调节构件在其纵向上的运动。
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