[发明专利]酰化纤维素薄膜及其制造方法、偏振片、相位差膜、光学补偿薄膜、防反射膜、以及液晶显示装置有效
申请号: | 200910261940.5 | 申请日: | 2006-06-09 |
公开(公告)号: | CN101738669A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 桥本齐和;中居真一;施泽民 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B29C55/04;B29C55/14;B29C71/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 白丽;陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化纤 薄膜 及其 制造 方法 偏振 相位差 光学 补偿 反射 以及 液晶 显示装置 | ||
1.一种酰化纤维素薄膜,其特征在于,在60℃、相对湿度90%的 环境下悬挂500小时时的尺寸变化率在慢轴方向和与其垂直的方向上均 为-0.1%~0.1%,在90℃干燥的环境下悬挂500小时时的尺寸变化率在 慢轴方向和与其垂直的方向上均为-0.1%~0.1%,厚度的偏差是0~2μm, 面内的延迟Re的偏差是0~5nm,厚度方向的延迟Rth的偏差是0~10nm, 慢轴的偏离是-0.5~0.5°。
2.权利要求1记载的酰化纤维素薄膜,其特征在于,构成酰化纤维 素薄膜的酰化纤维素具有二种以上的碳原子数为2~7的酰化基,并且满 足下述式(A)~(C),
式(A):2.45≤X+Y≤3.0
式(B):0≤X≤2.45
式(C):0.3≤Y≤3.0
式中,X表示乙酰基的取代度,Y表示碳原子数为3~7的酰基的取 代度的总和。
3.权利要求1记载的酰化纤维素薄膜,其特征在于,其是经过下述 工序制造的:将对酰化纤维素制膜后得到的酰化纤维素薄膜使用拉幅机 在宽度方向上拉伸5%~250%后,在拉幅机内除去至少一侧卡盘的束缚 的状态下进行热处理。
4.一种权利要求1记载的酰化纤维素薄膜的制造方法,其特征在 于,将酰化纤维素薄膜在残留溶剂量为1质量%以下的状态下、使用拉 幅机在宽度方向上、于(Tg-10℃)~(Tg+35℃)下拉伸5%~250% 后,在拉幅机内除去至少一侧卡盘的束缚的状态下进行热处理。
5.权利要求4记载的酰化纤维素薄膜的制造方法,其特征在于,构 成酰化纤维素薄膜的酰化纤维素具有二种以上的碳原子数为2~7的酰 化基,并且满足下述式(A)~(C),
式(A):2.45≤X+Y≤3.0
式(B):0≤X≤2.45
式(C):0.3≤Y≤3.0
式中,X表示乙酰基的取代度,Y表示碳原子数为3~7的酰基的取 代度的总和。
6.权利要求4记载的酰化纤维素薄膜的制造方法,其特征在于,所 述拉伸以使拉伸后的酰化纤维素薄膜的弯曲率为-1~1%的条件进行。
7.权利要求4记载的酰化纤维素薄膜的制造方法,其特征在于,所 述热处理后的酰化纤维素薄膜的慢轴方向与长度方向所形成的角度的 绝对值为89.5°~90.5°。
8.权利要求4记载的酰化纤维素薄膜的制造方法,其特征在于,在 所述拉幅机内除去卡盘的束缚后以1N/m~70N/m的张力进行传送。
9.权利要求4记载的酰化纤维素薄膜的制造方法,其特征在于,在 沿所述宽度方向拉伸之后、并在所述热处理之前,在比沿所述宽度方向 拉伸结束时的温度低0~20℃的温度下在宽度方向上松弛0.1%~40%。
10.权利要求4记载的酰化纤维素薄膜的制造方法,其特征在于, 在所述拉幅机内的宽度方向上拉伸时的温度分布满足下述式,
1≤Ts-Tc≤5
式中,Tc是薄膜中央部的平均温度,Ts是端部两侧的平均温度。
11.权利要求4记载的酰化纤维素薄膜的制造方法,其特征在于, 在所述拉伸之前,在酰化纤维素薄膜的长度方向上拉伸0%~50%。
12.一种偏振片,其使用了一张以上的权利要求1记载的酰化纤维 素薄膜。
13.权利要求12记载的偏振片,其特征在于,在偏振膜上层叠有至 少一层的所述酰化纤维素薄膜。
14.权利要求12记载的偏振片,其特征在于,将所述偏振片粘合在 厚度为0.7mm的40英寸的玻璃板上,在60℃、相对湿度90%的环境下 或在90℃干燥的环境下刚放置24小时后的翘曲量均为2mm以下。
15.一种相位差膜,其使用了一张以上的权利要求1记载的酰化纤 维素薄膜。
16.一种光学补偿薄膜,其使用了一张以上的权利要求1记载的酰 化纤维素薄膜。
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