[发明专利]用于在衬底上形成微观结构的方法

权利要求书

1.一种在衬底上形成微观结构的方法，所述方法包括：

提供具有表面(11)的衬底(10)，

在所述衬底的表面上形成具有预期形状的图案化种子层(12)， 以及

垂直地以使得基本上限于只加厚所述图案化种子层上面的区域 并以形成具有与所述衬底的表面基本平行的表面(14)的结构(13) 的方式加厚所述图案化种子层，以使得

形成所述图案化种子层包括在有前驱物流体或刻蚀流体(16)时 利用聚焦束(15)照射衬底。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述聚焦束是聚焦光束、聚焦 离子束或聚焦电子束。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中所述加厚包括原子层沉积 (ALD)。

4.如权利要求1或2所述的方法，其中所述加厚包括化学汽相沉 积(CVD)、等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)、有机金属化学 汽相沉积(MOCVD)、或分子束外延(MBE)。

5.如权利要求1或2所述的方法，其中利用聚焦束(309)照射 衬底(10)包括借助于透镜(308)将掩模(306)成像到衬底上。

6.如权利要求1或2所述的方法，其中利用聚焦束(15)照射衬 底(10)包括在所述衬底(10)上扫描所述聚焦束，其中所述聚焦束 的聚焦直径小于所述预期形状的最大尺寸。

7.如权利要求1或2所述的方法，其中在利用聚焦束(15)照射 衬底(10)之前在衬底上沉积同质种子层，并且所述聚焦束在所述同 质种子层中研磨或刻蚀图案以便形成图案化种子层。

8.如权利要求1或2所述的方法，其中在加厚所述图案化种子层 (12)后，形成第二图案化种子层(401a，401b)，并且加厚的图案 化种子层和新形成的第二图案化种子层随后被加厚。

9.如权利要求1或2所述的方法，其中在加厚所述图案化种子层 (12)后，所述结构的表面的一部分被抑制使得所述被抑制的部分不 能被进一步加厚，此后所述结构的剩余部分被进一步加厚。

10.如权利要求1或2所述的方法，其中在形成所述结构之后， 形成第二图案化种子层(401a，401b)，此后利用另一种其它材料 (402a，402b)加厚所述第二图案化种子层。

11.如权利要求1或2所述的方法，其中形成所述图案化种子层 (12)和加厚所述图案化种子层是在相同设备中完成的。