[发明专利]相位调制凹槽阵列微型光谱仪无效

专利信息
申请号: 200910264252.4 申请日: 2009-12-29
公开(公告)号: CN101819063A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 何浩培;杨涛;李千秋;黄维;蔡潮盛 申请(专利权)人: 南京邮电大学;香港中文大学
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/45
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 叶连生
地址: 210003 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 相位 调制 凹槽 阵列 微型 光谱仪
【权利要求书】:

1.一种相位调制凹槽阵列微型光谱仪,其特征在于该光谱仪包括一个构建在基底(3)中的微型干涉仪二维阵列,每个微型干涉仪设有第一凹槽(1),在不同的微型干涉仪中的第一凹槽(1)在基底(3)里的深度不同,在基底(3)的下表面设有CCD(4),在基底(3)和CCD(4)中间有一层遮挡物(5);遮挡物(5)把大部分CCD面元遮住,但在每一个微型干涉仪下方的遮挡物(5)上留有透光孔,透光孔的孔径小于CCD(4)所能探测到的入射光波的最小波长,透光孔位于第一凹槽下方的任意位置;第一凹槽的宽度与入射光波波长处于同一量级,第一凹槽的最大深度也为入射光波波长量级,在微型干涉仪二维阵列的上方有两个共焦的透镜(6),在两个共焦的透镜(6)之间的焦点处的遮光板中有一个小孔(7)。

2.根据权利要求1所述的相位调制凹槽阵列微型光谱仪,其特征在于每个微型干涉仪中的凹槽数为两个,这时每个微型干涉仪中的凹槽由第一凹槽(1)、第二凹槽(2)并列连接组成,但其中只有第一凹槽(1)的深度在各个微型干涉仪中各不相同,第二凹槽(2)的深度在不同的微型干涉仪中始终相同;为了提高整个器件的灵敏度,所述透光孔位于两个凹槽之间接触位置的正下方。

3.根据权利要求1所述的相位调制凹槽阵列微型光谱仪,其特征在于每个干涉仪中的凹槽数可以为多个,但其中只有第一凹槽(1)的深度在各个微型干涉仪中各不相同,其他凹槽的深度在不同的微型干涉仪中始终相同。

4.根据权利要求1所述的相位调制凹槽阵列微型光谱仪,其特征在于所述遮挡物(5)所用材料是非金属的不透光材料。

5.根据权利要求1所述的相位调制凹槽阵列微型光谱仪,其特征在于微型干涉仪二维阵列中的各个微型干涉仪之间留有足够的间距。

6.根据权利要求1或2所述的相位调制凹槽阵列微型光谱仪,其特征在于基底(3)所用材料为透明材料,在所能探测的入射波段没有明显的吸收峰。

7.根据权利要求1所述的相位调制凹槽阵列微型光谱仪,其特征在于微型干涉仪二维阵列中的每个微型干涉仪对应的不同深度的第一凹槽(1),凹槽横截面形状是不规则的,但彼此之间是相同的;对于不同的微型干涉仪深度变化的那个凹槽,即第一凹槽,其深度不是线性变化,凹槽底面不完全光滑平整,只要能保证对于不同的微型干涉仪,其中的第一凹槽(1)的深度各不相同。

8.根据权利要求1所述的相位调制凹槽阵列微型光谱仪,其特征在于透光孔位于第一凹槽(1)边缘的正下方。

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