[发明专利]轴承保持架结构

说明书

技术领域

本发明涉及一种轴承保持架结构，属于轴承制造领域。

背景技术

轴承得不到良好的润滑，造成轴承腐蚀、磨损占了很大的一部分。通常角接触球轴承保持架结构为一简单圆环形，圆周方向均匀分布若干个兜孔，转动体直接与兜孔接触，摩擦较大。另外，在轴承运转过程中，润滑介质也很难进入保持架内部及轴承滚动表面，实际使用中常出现由于润滑不良而导致轴承的过早失效、破坏。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种可以方便轴承润滑，减小摩擦的轴承保持架结构。

为实现上述技术目的，本发明的技术方案是：一种轴承保持架结构，包括保持架梁、保持架兜孔，保持架兜孔设置在相邻保持架梁之间，在保持架兜孔内的保持架梁上，沿与滚动体轴向垂直的方向设置有两端与滚动体接触的凸块。

所述凸块可以为两段，分别设置在滚动体轴向位置的两端。

本发明的有益效果是：本发明设置的凸块，使得润滑介质方便地进入轴承的滚动表面，改善了润滑效果；凸块的两端与滚动体接触，减少了滚动体的摩擦力，同时也减少了加工时的误差。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

图1为本发明的结构示意图。

图2为图1中I部的局部放大图。

图3为图1中II部的结构示意图。

图4为图1中A-A向的剖视图。

具体实施方式

如图1所示，一种轴承保持架结构，包括保持架梁2、保持架兜孔1，保持架兜孔1设置在相邻保持架梁2之间。

如图2、3所示，在保持架兜孔1内的保持架梁2上，沿与滚动体3轴向垂直的方向设置有两端与滚动体3接触的凸块4。

如图4所示，所述凸块4可以为两段，分别设置在滚动体3轴向位置的两端。这样设置，滚动体3便和凸块4的两端接触，形成四点接触，减少了摩擦力。凸块4的底部也形成润滑介质的空间，方便润滑介质方便地进入轴承的滚动表面，改善了润滑效果。

上述实施例不以任何方式限制本发明，凡是采用等同替换或等效变换的方式获得的技术方案均落在本发明的保护范围内。