[发明专利]光源装置

说明书

技术领域

本发明涉及在半导体或液晶基板、甚至彩色滤光片等的制造工序 中利用的曝光装置中所组装的光源装置。

背景技术

在半导体或液晶基板或彩色滤光片等的制造工序中，要求处理时 间的短缩化、大面积的被处理物的统一曝光。针对该要求，提出了一 种可投入更大紫外线放射强度的输入电力较大的高压放电灯。

但是，如果增大对高压放电灯的输入电力，则对于电极的负荷增 大，来自电极的蒸发物会成为肇因，产生高压放电灯黑化，寿命变短 的问题。

图13是表示现有技术的专利文献1中记载的光源装置的图。

如该图所示，该光源装置100是为了解决上述问题，将无电极的 放电灯104配置在椭圆反射镜101内，通过设在椭圆反射镜101的侧 面的孔部102，使激光入射至放电灯104的放电容器内，激发封在放电 容器内的放电气体而使其发光的装置。通过该光源装置100，由于在放 电灯104中不具有电极，因此可解决上述问题。

但是，专利文献1所记载的光源装置100是在椭圆反射镜101的 侧面具有激光的光取入孔102与光取出孔103，当由椭圆反射镜101聚 集从无电极放电灯104发出的紫外线时，由于在反射面上具有孔102、 103，因此存在无法高效利用紫外线的问题。此外，激光由与椭圆反射 镜101的光轴X交叉的方向入射至无电极放电灯104，放电向横向(与 光轴X交叉的方向)延伸，在偏离椭圆反射镜101的焦点的区域发生 放电，紫外线未被准确反射，存在无法高效利用紫外线的问题。

图14是表示其它现有技术的专利文献2所记载的光源装置的图。

如该图所示，该光源装置200是为了解决上述问题，将无电极的 放电灯配置在反射镜201内，通过反射镜201顶部的开口202，使激光 入射至放电灯的放电容器203内，激发封入在放电容器203内的放电 气体而使其发光的装置。通过该光源装置200，由于在放电灯中不具有 电极，因此可解决上述问题。

但是，在专利文献2所记载的光源装置200中，激光由反射镜201 的顶部开口202入射至反射镜201内，照射在放电容器203而发生放 电204，但是激光的一部分会通过放电204，进而还透过放电容器203， 连同由放电而发生的放射光一并，将激光照射在照射面。结果，因该 不希望的激光的影响，产生照射面的被处理物损伤的问题。

图15及图16是表示用来解决专利文献2所记载的光源装置200 的上述问题点的结构的图。

根据图15所示的结构，使从由反射镜205进行光出射的开口侧入 射的激光在反射镜206反射，照射至反射镜205内，激发被填充在反 射镜205内的放电气体而使放电发生，使因放电而生成的放射光透过 反射镜206进行放射。此外，根据图16所示的结构，使从由反射镜205 进行光出射的开口侧入射的激光透过反射镜208而照射至反射镜205 内，激发填充在反射镜205内的放电气体而使放电发生，使由放电生 成的放射光在反射镜208反射，进行放射。

根据图15及图16所示的结构，可以解决图14的光源装置的问题 点。但是，在图15及图16所示的结构中，反射镜206、208必须具有 波长选择性，会存在难以制造且无法确实地切分波长的情况。甚至， 在反射镜206中，放射光的一部分被反射镜206吸收，在反射镜208 上也有放射光的一部分被反射镜208吸收，存在无法高效利用放射光 的问题。

专利文献1日本特开昭61-193358号公报

专利文献2美国专利2007/0228300号公报

发明内容

本发明的目的在于鉴于上述问题点，提供一种光源装置，对放电 容器照射激光而由放电容器放射出放射光，利用通过放电容器来遮蔽 来自椭圆反射镜的反射光而未被照射反射光的反射光非照射区域，来 导入激光，由此在椭圆反射面反射由放电容器放射的光，可高效利用 该反射光。

本发明为了解决上述课题，而采用如下所示的方案。