[发明专利]光学成像系统无效

专利信息
申请号: 200910301403.9 申请日: 2009-04-08
公开(公告)号: CN101859021A 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 袁崐益;刘贺强 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: G02B17/08 分类号: G02B17/08;G02B5/10;H04N5/225
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种光学成像系统。

背景技术

目前多种光学成像设备中的感测芯片如CCD(Charge Coupled Device)或者CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等元件一般与光学成像设备中的镜片以及成像目标之间呈直线,即便是目前具有旁轴光学成像系统的照相机,其也是采用平面镜或者全反射镜来将光线反射至上述光学元件上,这种光学成像系统的配置方式使得光学成像系统的视场角局限在一定范围内,在一些需要极大的视场角的环境下,往往需要通过一些辅助装置来辅助光学成像系统转动从而获得较大的视场角,此种方式机构较为复杂,而且需要操作者自主操作,较为繁琐。

发明内容

有鉴于此,有必要提供一种具有广视场角的光学成像系统。

一种光学成像系统,其包括一个感测芯片、至少一组光学镜片、以及一个曲面反射镜。所述光学镜片设置在所述感测芯片所在光学通路中用以调置光线。所述曲面反射镜对应所述感测芯片设置在所述光学镜片的另一侧用以反射该光学成像系统的光路中的光线。

相较现有技术,本发明的光学成像系统利用曲面反射镜可来反射该光学成像系统中的光线,由于曲面反射镜具有可反射较大视场范围光线的特性,因此,该光学成像系统可获得较大的视场角。

附图说明

图1是本发明光学成像系统第一较佳实施方式示意图;

图2是本发明光学成像系统第二较佳实施方式示意图。

具体实施方式

请参阅图1,本发明第一较佳实施方式提供的一种光学成像系统100,该光学成像系统100包括一个感测芯片110、至少一组光学镜片120、以及一个曲面反射镜130。所述光学镜片120设置在所述感测芯片110所在光学通路中用以调置光线,所述曲面反射镜130对应所述感测芯片110设置在所述光学镜片120的另一侧用以反射该光学成像系统100的光路中的光线。

所述感测芯片110设置在一个支撑臂140上,该支撑臂140用以支撑所述感测芯片110,其可以是相机机体,也可以是显示器边框等元件。所述感测芯片110用以将照射在该感测芯片110上的光线成像,其可以是CCD或CMOS中的任意一种。本实施方式中,所述支撑臂140可转动地连接在一支撑座150上,所述支撑臂140与所述支撑座150之间的角度在60度至150度之间。

所述至少一组光学镜片120用以调置通过光学成像系统100的光路中的光线,使得经过该光学镜片120的光线可以清晰的成像。至少一组光学镜片120可通过一个镜筒(图未示)配置在所述感测芯片110上。

所述曲面反射镜130用以扩大该光学成像系统100的视场角,该曲面反射镜130为凸面反射镜,所述凸面反射镜的反射面可是球面或者非球面。所述曲面反射镜130可设置在容置所述光学镜片120的镜筒的光学入口处。

使用时,请参阅1所示,在所述支座150上选取三个点A、B、C,由该三点反射出的光线x、y、z分别投射至曲面反射镜130的反射面上,并经所述曲面反射镜130反射至光学镜片120中,所述光线x、y、z经过所述光学镜片120的调置后投射至所述感测芯片110上,所述曲面反射镜130将偏离所述光学镜片120的光轴且与所述光轴呈不同角度的光线反射至感测芯片110中,从而扩大了该光学成像系统100的视场角。

请参阅图2,本发明第二较佳实施方式提供的一种光学成像系统200,该光学成像系统200与光学成像系统100相似,其中,相对应的标号,如110与210代表相同的元件,其区别在于本实施方式中所述光学成像系统200中的曲面反射镜230为凹面反射镜,该凹面反射镜的反射面为球面或者非球面。使用时,在所述支座250上选取三个点E、F、G,由该三点反射出的光线l、m、n分别投射至曲面反射镜230的反射面上,并经所述曲面反射镜230反射至光学镜片220中,所述光线l、m、n经过所述光学镜片220的调置后投射至所述感测芯片210上,所述曲面反射镜230将偏离所述光学镜片220的光轴且与所述光轴呈不同角度的光线反射至感测芯片210中,从而扩大了该光学成像系统200的视场角。

可以理解,在所述光学成像系统100、200的两个曲面反射镜130、230前分别设置一个光圈160、260用以控制上述光学成像系统100、200的入/出光量。

应该指出,上述实施方式仅为本发明的较佳实施方式,本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化。这些依据本发明精神所做的变化,都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

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