[发明专利]溅镀转盘及其应用的溅镀装置

权利要求书

1.一种溅镀转盘，其包括一个基体，一个驱动装置，至少一个传动装置，所述基体连接在驱动装置上，所述传动装置可转动地连接在所述基体上并与所述驱动装置相啮合，其特征在于：所述基体包括一个上表面以及一个下表面，在所述上表面上开设有至少一个凹槽用以容置待溅镀基板，所述凹槽的深度以使容置在所述凹槽内的待溅镀基板的上表面与基体的上表面平齐为准。

2.如权利要求1所述的溅镀转盘，其特征在于：所述驱动装置支撑在所述基体的下表面上，所述驱动装置包括一个驱动轴，以及一个设置在驱动轴端部的驱动齿轮，所述驱动齿轮可转动的设置在所述基体的下表面上，所述传动装置可转动的设置在所述基体对应所述凹槽的位置处，所述传动装置的一端容置在所述凹槽的内部，另一端设置有一个从动齿轮，该从动齿轮与所述驱动齿轮相互连接。

3.如权利要求2所述的溅镀转盘，其特征在于：所述传动装置设置在所述凹槽内的一端与所述基体的上表面的距离等于待溅镀基板的厚度。

4.如权利要求2所述的溅镀转盘，其特征在于：所述基体的下表面上设置一个齿圈，所述齿圈与所述驱动装置的驱动轴同心，且通过齿圈内侧的齿牙与所述传动装置上的从动齿轮相啮合。

5.一种溅镀装置，其包括一个容置腔体，以及至少一个靶材，所述靶材设置在所述容置腔体顶部内侧，其特征在于：该溅镀装置包括如权利要求1至4任意一项所述之溅镀转盘，所述溅镀转盘设置在所述容置腔体底部内侧与所述靶材相对正且相互间隔一定距离。

6.如权利要求5所述的一种溅镀装置，其特征在于：所述容置腔体内设置有强磁力磁场。