[发明专利]坩埚及真空蒸镀系统无效

专利信息
申请号: 200910302893.4 申请日: 2009-06-03
公开(公告)号: CN101906610A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 裴绍凯 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 坩埚 真空 系统
【权利要求书】:

1.一种坩埚,用于放置颗粒状膜料;其特征在于:所述坩埚包括一底板、一侧壁及多个通风管道;所述底板上设置有一载料区,用于承载颗粒状膜料;所述侧壁垂直固设于底板边缘,并与所述底板形成一容置空间;所述每个通风管道包括一进气端和一出气端;多个通风管道容置于所述容置空间内,且其进气端固设于侧壁上且与侧壁上的通风口相连通,出气端朝向于底板并围绕所述载料区分布。

2.如权利要求1所述的坩埚,其特征在于:所述多个通风管道的出气端两两相互邻接将所述载料区环绕。

3.如权利要求1所述的坩埚,其特征在于:所述底板为圆形结构。

4.如权利要求1所述的坩埚,其特征在于:所述多个通风口均匀间隔开设于侧壁。

5.如权利要求1所述的坩埚,其特征在于:所述坩埚采用一体成型。

6.如权利要求1所述的坩埚,其特征在于:所述坩埚采用高温耐热金属材料制成。

7.如权利要求6所述的坩埚,其特征在于:所述高温耐热金属材料为钨、钼或钽中的一种。

8.一种真空蒸镀系统,其包括一蒸镀腔、一底座、一坩埚及一热风源;所述底座设置于蒸镀腔内;所述坩埚设置于底座上,用于放置颗粒状膜料;所述热风源位于底座下方,该热风源与坩埚相连通;其特征在于:所述坩埚包括一底板、一侧壁及多个通风管道;所述底板上设置有一载料区,用于承载颗粒状膜料;所述侧壁垂直固设于底板边缘,并与所述底板形成一容置空间;所述每个通风管道包括一进气端和一出气端;多个通风管道容置于所述容置空间内,且其进气端固设于侧壁上且与侧壁上的通风口相连通,出气端朝向于底板并围绕所述载料区分布。

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