[发明专利]深孔内壁电弧离子镀膜方法有效

专利信息
申请号: 200910303933.7 申请日: 2009-07-02
公开(公告)号: CN101597750A 公开(公告)日: 2009-12-09
发明(设计)人: 林国强;石昌仑;王文涛;刘琪 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 大连理工大学专利中心 代理人: 侯明远
地址: 116085辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 内壁 电弧 离子 镀膜 方法
【权利要求书】:

1.深孔内壁电弧离子镀膜方法,是将具有管孔结构的工件清洗干燥后放入 电弧离子镀的真空室中,经过抽真空、通氩气、启弧、加负偏压、溅射清洗、 通反应气体、镀膜、停弧、断电和炉冷阶段后取出工件,其特征在于:在具有 管孔结构的工件周围布置永磁铁和在镀膜阶段使用脉冲偏压,布置的永磁铁的 磁感应强度为500~8000高斯、长度为20~100mm,磁铁几何中心点到工件(3) 和孔(6)端面的距离L与磁铁的磁感应强度B成正比,并符合L=B/40±50关 系,其中B的单位为高斯,L的单位为毫米;使用的脉冲偏压的幅值为200~800V, 频率为5~40kHz,占空比为5~40%。

2.根据权利要求1所述深孔内壁电弧离子镀膜方法,其特征在于:所述的 在具有管孔结构的工件周围布置永磁铁,是在工件(3)一侧与工件的孔轴方向 成0~45°角布置一个主永磁铁(4)。

3.根据权利要求1所述深孔内壁电弧离子镀膜方法,其特征在于:所述的 在具有管孔结构的工件周围布置永磁铁,是在工件(3)的两侧与工件的孔轴方 向成0~45°角对称布置一个主永磁铁(4)和一个辅永磁铁(5)。

4.根据权利要求1所述深孔内壁电弧离子镀膜方法,其特征在于:所述的 具有管孔结构的工件是长度为20~150mm,直径为20~100mm,宽度和高度为20~ 100mm的具有内孔结构的金属模具。

5.根据权利要求1所述深孔内壁电弧离子镀膜方法,其特征在于:所述的 具有管孔结构的工件是直径为Φ10~100mm、长为50~400mm、厚度为1~10mm 的金属管子。

6.根据权利要求1所述深孔内壁电弧离子镀膜方法,其特征在于:所述的 具有管孔结构的工件是长度为20~150mm,直径为20~100mm,宽度和高度为20~ 100mm的具有内孔结构的金属零件。

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