[发明专利]镀膜伞架

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置，尤其涉及一种用于蒸镀过程中能够防止待镀工件被污染的镀膜伞架。

背景技术

当前，许多工业产品表面都镀有功能薄膜，以改善产品表面的各种性能。如在光学镜片的表面镀上一层抗反射膜，以降低镜片表面的反射率，降低入射光通过镜片的能量损耗。又如在某些滤光元件表面镀上一层滤光膜，可滤掉某一预定波段的光，制成各种各样的滤光片。一般地，镀膜方法主要包括离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。Ichiki，M.等人在2003年5月发表于2003Symposium on Design，Test，Integration andPackaging of MEMS/MOEMS的论文Thin film formation-a fabrication on non-planarsurface by spray coating method中介绍了通过喷涂在非平面形成薄膜的方法。

蒸镀是一种物理气相沉积技术，即以物理的方式进行薄膜沉积。具体地，其通过离子束或电子束对蒸镀材料进行加热，使蒸镀材料变成气态或离子态，而沉积在待镀工件表面以形成一蒸镀材料膜层。

在对工件的某一面进行镀膜时，通常是将待镀工件固定于镀膜伞架上。在将待镀工件固定于伞架的过程时，待镀工件暴露在环境中，环境中的粒子附着于待镀工件的表面，使得上述粒子形成于镀膜内，造成镀膜产品不良。另外，蒸镀靶材设置于镀膜伞架下方，通过蒸发而将靶材冲至镀膜伞架，从而对待镀工件的朝向镀膜伞架下方的一面进行镀膜。然而，由于在蒸镀制程中，蒸镀源的离子在真空腔体内是以无序的方式运动，其容易从固定式伞架的周围流动至伞架上方，附着在待镀工件的周缘及另一面从而污染待镀工件。

发明内容

因此，有必要提供一种镀膜伞架，能够避免在待镀工件安装及进行镀膜过程时防止待镀工件污染。

一种镀膜伞架，其包括伞架本体、转轴及遮罩。所述伞架本体开设有多个容置通孔，用于容置多个待镀工件。所述遮罩通过所述转轴可转动地设置于伞架本体，所述遮罩与所述伞架本体同轴并相互对应，用于遮挡伞架本体。所述遮罩具有自其中心向其边缘开设的第一开口，以使伞架本体的部分容置通孔从所述第一开口露出。

相较于现有技术，本技术方案提供的镀膜伞架，其包括有可以相对转动的伞架本体和遮罩，遮罩遮挡伞架本体，遮罩开设有开口，待镀工件通过开口放置于伞架本体的容置通孔内，并通过转动遮罩，使得放置有待镀工件的容置通孔被遮罩遮挡，从而可以减少外界中的粒子附着于待镀工件的表面，从而可以提高镀膜工件镀膜的质量。

附图说明

图1是本技术方案第一实施例提供的镀膜伞架的立体示意图。

图2是本技术方案第一实施例提供的镀膜伞架的立体分解示意图。

图3是本技术方案第二实施例提供的镀膜伞架的立体分解示意图。

具体实施方式

下面将结合多个附图及实施例，对本技术方案提供的镀膜伞架作进一步的详细说明。

请一并参阅图1及图2，本发明实施例提供一种镀膜伞架100，其包括一个伞架本体110、旋转轴120、一个遮罩130、一个挡板140及一个固定件150。

伞架本体110具有相对的第一表面111和第二表面112。其中，第一表面111为内凹表面，其与蒸镀源相对。第二表面112为外凸表面。自第一表面111向第二表面112开设有多个容置通孔113，用于容置待镀工件。多个容置通孔113大小相等，且在伞架本体110上整齐排布。本实施例中，多个容置通孔113排列于以伞架本体110中心为圆心的多个同心圆周上。位于同一圆周上的多个容置通孔113等间距等角度设置。

转轴120固定于伞架本体110，并使得遮罩130和挡板140可相对伞架本体110转动。转轴120设置于伞架本体110的第二表面112中心向远离伞架本体110的方向延伸。转轴120与伞架本体110同轴设置。本实施例中，转轴120包括同轴设置且均为圆柱形的支撑段121和延伸段122。支撑段121的直径大于延伸段122的直径。在延伸段122远离支撑段121的一端，形成有外螺纹123。