[发明专利]滤光元件及其制造方法、相机模组以及便携式电子装置

权利要求书

1.一种滤光元件，其包括一透明基板及设置在该透明基板上的一薄膜滤光片，其特征在于：该滤光元件进一步包括一金属薄膜层，该金属薄膜层设置在该薄膜滤光片外表面，该金属薄膜层还设置有一通光孔，该通光孔用来使外部光线照射进入该薄膜滤光片。

2.如权利要求1所述的滤光元件，其特征在于：该透明基板是玻璃基板。

3.如权利要求2所述的滤光元件，其特征在于：该金属薄膜层包括自该薄膜滤光片向外依次设置的氮化铬膜层、铜膜层及不锈钢薄膜层。

4.如权利要求3所述的滤光元件，其特征在于：该薄膜滤光片是红外光截止滤光片。

5.一种制造滤光元件的方法，其包括：

(1)提供一个透明基板；

(2)在该透明基板上涂敷至少一层陶瓷粉体，并且每层陶瓷粉体采用镭射硬化的方式进行初步硬化；

(3)在初步硬化后的陶瓷粉体的上表面预定位置设置UV硬化树脂，并硬化该UV硬化树脂；

(4)在该初步硬化后的陶瓷粉体表面通过连续溅镀的方式镀上金属薄膜层，该金属薄膜层的厚度小于或者等于固化后的UV硬化树脂的厚度；

(5)用酒精擦除UV硬化树脂形成通光孔；

(6)将该透明基板放入高温环境中对该陶瓷粉体进行深度硬化，该高温环境的温度高于采用镭射初步硬化的温度；

(7)将该陶瓷粉体全部去除，形成一个以该透明基板为底、该金属薄膜层为壁的空腔；

(8)在该空腔内部以离子助镀法形成薄膜滤光片。

6.如权利要求5所述的制造滤光元件的方法，其特征在于：该制造滤光元件的方法进一步包括在步骤(7)与步骤(8)之间进行一个陶瓷粉体涂敷步骤，该步骤用来将该空腔的外层涂敷一层陶瓷粉体，该层陶瓷粉体在步骤(8)完成后用纯水将其清洗去除。

7.如权利要求5或6所述的制造滤光元件的方法，其特征在于：从第二层陶瓷粉体开始，采用镭射硬化的方式对该陶瓷粉体层的部分或者全部进行初步硬化，未被硬化的部分陶瓷粉体用纯水将其清洗去除。

8.如权利要求7所述的制造滤光元件的方法，其特征在于：采用旋转涂布法涂敷该陶瓷粉体层。

9.如权利要求8所述的制造滤光元件的方法，其特征在于：该镭射硬化温度范围是[100℃，200℃]。

10.如权利要求9所述的制造滤光元件的方法，其特征在于：该陶瓷粉体在该高温炉中的硬化温度范围是[250℃，1000℃]。

11.一种相机模组，其包括镜头模组及与该镜头模组相对设置的感测器，其特征在于：进一步包括如权利要求1至4项任一项所述的滤光元件，该滤光元件设置在该镜头模组靠近物侧的端部，并且与该镜头模组处于同一光轴上。

12.一种便携式电子装置，其包括电子装置本体及设置在该电子装置本体上的如权利要求11所述的相机模组。