[发明专利]镀膜装置无效
申请号: | 200910307030.6 | 申请日: | 2009-09-15 |
公开(公告)号: | CN102021528A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 王仲培 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/34;C23C16/54 |
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地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 装置 | ||
1.一种镀膜装置包括一个镀膜腔体、一个传送带、至少一个隔板以及至少一个支架,所述至少一个传送带设置在所述镀膜腔体内侧底部,所述至少一个隔板设置在所述镀膜腔体内将所述镀膜腔体区分为两个或多个相互隔开的容置空间,所述隔板可相对所述镀膜腔体滑动从而使相邻的两个容置空间相互联通或者相互隔离,所述至少一支架容置在由所述隔板间隔而成的容置空间内,并能在所述传送带的带动下依次进入不同的容置空间内进行镀膜。
2.如权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于:所述镀膜腔体是由一个底板、一个顶板、两个侧板以及两个舱门构成的一个封闭的反应腔,所述两个舱门分别设置于所述镀膜腔体的两端并分别枢接在其中一所述侧板的侧边上。
3.如权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于:在其中一所述侧板上沿竖直方向设置有贯穿该侧板的开槽,所述隔板可滑动地设置在所述开槽内。
4.如权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于:在所述底板的内侧表面上形成有凹槽,所述传送带设置在所述凹槽内。
5.如权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于:所述支架包括两个相对设置支座,以及连接所述两个支座的多个立柱,所述立柱间隔设置在所述两个支座之间。
6.如权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于:在所述每一容置空间内均设置有用以镀膜的靶材、气体源以及阴极管。
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