[发明专利]电磁屏蔽膜及具有该电磁屏蔽膜的镜头模组

权利要求书

1.一种电磁屏蔽膜，该电磁屏蔽膜形成于光学元件上，所述光学元件有用于改善光学性能的滤光膜，所述滤光膜上覆盖有用于限制光线进入的遮光膜，所述遮光膜上覆盖有所述电磁屏蔽膜，其特征在于，该电磁屏蔽膜包括第一金属层及第二金属层，所述第一金属层为不锈钢材料，所述第一金属层直接形成于所述遮光膜表面，所述第二金属层是铜，所述第二金属层形成于所述第一金属层表面。

2.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述电磁屏蔽膜还包括第三金属层，所述第三金属层是不锈钢，所述第三金属层形成于所述第二金属层上。

3.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述电磁屏蔽膜还包括第三金属层，所述第三金属层是不锈钢掺杂铜元素，所述第三金属层形成于所述第二金属层上。

4.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述第二金属层为多层，所述电磁屏蔽膜还包括跟第二金属层相同数量的第三金属层，所述第三金属层是不锈钢，多层所述第二金属层及多层所述第三金属层沿所述第一金属层交替覆盖。

5.一种电磁屏蔽膜，该电磁屏蔽膜形成于光学元件上，所述光学元件有用于改善光学性能的滤光膜，所述滤光膜上覆盖有用于限制光线进入的遮光膜，所述遮光膜上覆盖有所述电磁屏蔽膜，其特征在于，该电磁屏蔽膜包括第一金属层，所述第一金属层是不锈钢掺杂铜元素，所述第一金属层直接形成于所述遮光膜表面。

6.如权利要4所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述电磁屏蔽膜还包括第二金属层及第三金属层，所述第二金属层是铜，所述第二金属层形成于所述第一金属层表面上，所述第三金属层是不锈钢掺杂铜元素，所述第三金属层形成于所述第二金属层上。

7.一种镜头模组，其包括影像感测器、镜片组及间隔体，所述间隔体设置于所述影像感测器上，所述镜片组设置于所述间隔体上，所述镜片组包括光学部、非光学部及周缘，所述光学部位于所述镜片组中心，所述非光学部环绕光学部设置，所述周缘环绕所述非光学部设置，所述非光学部及周缘上覆盖有滤光膜，所述滤光膜上覆盖有遮光膜，所述遮光膜上覆盖有电磁屏蔽膜，其特征在于，该电磁屏蔽膜包括第一金属层及第二金属层，所述第一金属层为不锈钢材料，所述第一金属层直接形成于所述遮光膜表面，所述第二金属层是铜，所述第二金属层形成于所述第一金属层表面。

8.如权利要求7所述的镜头模组，其特征在于，所述电磁屏蔽膜还包括第三金属层，所述第三金属层是不锈钢，所述第三金属层形成于所述第二金属层上。

9.如权利要求7所述的镜头模组，其特征在于，所述电磁屏蔽膜还包括第三金属层，所述第三金属层是不锈钢掺杂铜元素，所述第三金属层形成于所述第二金属层上。

10.如权利要求7所述的镜头模组，其特征在于，所述第二金属层为多层，所述电磁屏蔽膜还包括跟第二金属层相同数量的第三金属层，所述第三金属层是不锈钢，多层所述第二金属层及多层所述第三金属层沿所述第一金属层交替覆盖。

11.一种镜头模组，其包括影像感测器、镜片组及间隔体，所述间隔体设置于所述影像感测器上，所述镜片组设置于所述间隔体上，所述镜片组包括光学部、非光学部及周缘，所述光学部位于所述镜片组中心，所述非光学部环绕光学部设置，所述周缘环绕所述非光学部设置，所述非光学部及周缘上覆盖有滤光膜，所述滤光膜上覆盖有遮光膜，所述遮光膜上覆盖有电磁屏蔽膜，其特征在于，该电磁屏蔽膜包括第一金属层，所述第一金属层是不锈钢掺杂铜元素，所述第一金属层直接形成于所述遮光膜表面。

12.如权利要10所述的镜头模组，其特征在于，所述电磁屏蔽膜还包括第二金属层及第三金属层，所述第二金属层是铜，所述第二金属层形成于所述第一金属层表面上，所述第三金属层是不锈钢掺杂铜元素，所述第三金属层形成于所述第二金属层上。