[发明专利]氮化硼基复合陶瓷透波材料及其制备方法有效
申请号: | 200910307688.7 | 申请日: | 2009-09-25 |
公开(公告)号: | CN101648809A | 公开(公告)日: | 2010-02-17 |
发明(设计)人: | 贾德昌;段小明;杨治华;张薇;周玉 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C04B35/5833 | 分类号: | C04B35/5833;C04B35/645 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 | 代理人: | 韩末洙 |
地址: | 150001黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氮化 复合 陶瓷 材料 及其 制备 方法 | ||
1.氮化硼基复合陶瓷透波材料,其特征在于氮化硼基复合陶瓷透波材料按质量百分比 由5%~15%非晶态SiO2粉末、0~10%AlN粉末和75%~95%六方氮化硼粉末制成,所述 氮化硼基复合陶瓷透波材料以六方相BN作为基体成分;SiO2存在于六方BN的晶粒之间, 当AlN存在时AlN以颗粒形式弥散存在于BN颗粒之间,氮化硼基复合陶瓷透波材料的透 波率达85%以上,耐温达1600℃以上。
2.根据权利要求1所述的氮化硼基复合陶瓷透波材料,其特征在于氮化硼基复合陶瓷 透波材料按质量百分比由10%~12%非晶态SiO2粉末和88%~90%六方氮化硼粉末制成。
3.根据权利要求1所述的氮化硼基复合陶瓷透波材料,其特征在于氮化硼基复合陶瓷 透波材料按质量百分比由8%~12%非晶态SiO2粉末、2~8%AlN粉末和80%~90%六方氮 化硼粉末制成。
4.根据权利要求1所述的氮化硼基复合陶瓷透波材料,其特征在于氮化硼基复合陶瓷 透波材料按质量百分比由10%非晶态SiO2粉末、5%AlN粉末和85%六方氮化硼粉末制成。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的氮化硼基复合陶瓷透波材料,其特征在于非晶态 SiO2粉末平均粒径为8~10μm。
6.根据权利要求1~4中任一项所述的氮化硼基复合陶瓷透波材料,其特征在于非晶态 SiO2粉末平均粒径为50~200nm。
7.如权利要求1所述氮化硼基复合陶瓷透波材料的制备方法,其特征在于氮化硼基复 合陶瓷透波材料的制备方法是按下述步骤进行的:一、按质量分数称取5%~15%非晶态 SiO2粉末、0~10%AlN粉末和75%~95%六方氮化硼粉末后混匀,然后以乙醇及ZrO2陶瓷 球作为介质球磨24小时,球料质量比为3∶1,得到浆料;二、将浆料放入不锈钢盆中,然 后置于电磁炉上进行烘干得到粘连成团的颗粒,再将粘连成团的颗粒研碎后过140~180目 的筛,得到混料,其中烘干前期以1~2圈/每分钟速度进行搅拌,沸腾后停止搅拌;三、将 步骤二制得的混料装入石墨模具中,在15~20MPa的压力下预压,保压时间为30~60秒; 四、将经步骤三处理的石墨模具置于烧结炉中,在氮气气氛、1700~1750℃条件下,施加 15~20MPa的压力进行热压烧结,热压烧结保温时间为30~40分钟,然后随炉冷却,获得 氮化硼基复合陶瓷透波材料。
8.根据权利要求7所述的氮化硼基复合陶瓷透波材料的制备方法,其特征在于步骤一 中所述的非晶态SiO2粉末平均粒径为8~10μm。
9.根据权利要求7所述的氮化硼基复合陶瓷透波材料的制备方法,其特征在于步骤一 中所述的非晶态SiO2粉末平均粒径为50~200nm。
10.根据权利要求7、8或9所述的氮化硼基复合陶瓷透波材料的制备方法,其特征在 于步骤四热压烧结温度为1710~1740℃。
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