[发明专利]蒸发源及使用该蒸发源的蒸镀装置

说明书

技术领域

本发明是关于一种蒸发源及使用该蒸发源的蒸镀装置。

背景技术

蒸镀装置已广泛用于各种电子零件的薄膜蒸镀，特别是用于半导体、LCD、有机电场显示装置等电子装置及显示装置的薄膜形成中。如今，使用蒸发装置蒸镀形成薄膜也开始用于各种电子装置的外观装饰中。

蒸镀装置是将蒸镀材料及被镀基板置于真空容器内，并由蒸发源加热蒸镀材料使其蒸发或者升华而汽化，汽化后的蒸镀材料堆积在被镀基板的表面而形成薄膜。作为上述蒸镀装置的蒸镀材料的蒸发源，提出有电阻加热式蒸发源、感应加热式蒸发源、电子束加热式蒸发源、激光加热式蒸发源等，其中电阻加热式蒸发源是采用具有一定电阻的电极放热对蒸镀材料进行加热，该蒸发源设备便宜、操作容易。

请参阅图1及图2，一种现有的电阻加热式蒸发源包括二导电杆10，该二导电杆10两侧等间隔地、对称突出有多对等长的支撑件12，每对支撑件12可用于固定一发热电阻14，蒸镀材料(图未示)则可通过缠绕等方式与该发热电阻14接触，由此可在导电杆10上沿长度方向上连续地设置蒸镀材料。蒸镀时，多个待镀工件(图未示)可围绕该蒸发源旋转地设置于该蒸发源的周边。上述蒸发源只在导电杆10的两侧(即相对的两个方向)设置用于支撑蒸镀材料的支撑件12，且支撑件12等间隔、等长度设置，利用该蒸发源加热汽化的蒸镀材料粒子在蒸发源周围的空间分布不均匀，导致待镀工件上形成的镀膜厚度不均匀，从而影响使用该待镀工件的电子装置的功能或外观质量。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可形成均匀镀膜的蒸发源。

另外，还有必要提供一种使用该蒸发源的蒸镀装置。

一种蒸发源，其包括一电极组件以及多层支撑单元，该电极组件包括四间隔设置的电极杆，该多层支撑单元沿该电极杆的长度方向间隔设置，每层支撑单元包括向不同方向伸出的四支撑架，每一支撑架包括分别由相邻的二电极杆伸出的二支撑臂及若干架设于该二支撑臂上的发热电阻丝，所述相邻二支撑单元之间的间距由邻近该电极杆两端朝邻近该电极杆中部位置逐渐增大。

一种蒸镀装置，包括一真空腔室，及置于该真空腔室内的一蒸发源、一底座及固定于底座上的多个用于放置待镀工件的固定架，该蒸发源设于该底座中央，该固定架可自转地围绕该蒸发源旋转，该蒸发源包括一电极组件以及多层支撑单元，该电极组件包括四间隔设置的电极杆，该多层支撑单元沿该电极杆的长度方向间隔设置，每层支撑单元包括向不同方向伸出的四支撑架，每一支撑架包括分别由相邻的二电极杆伸出的二支撑臂及若干架设于该二支撑臂上的发热电阻丝，所述相邻二支撑单元之间的间距由邻近该电极杆两端朝邻近该电极杆中部位置逐渐增大。

上述蒸镀装置的蒸发源沿该电极杆设置多层支撑单元，且每层支撑单元包括四向不同方向伸出的支撑架，每一支撑架分别由相邻的二电极杆上各伸出一支撑臂组成，且靠近该电极杆两端位置的支撑单元较位于该电极杆中部位置的支撑单元密集。由此可使蒸镀材料的汽化粒子均匀的分布在蒸发源周围，因此可于待镀工件上形成均匀的镀膜。

附图说明

图1为一种现有的蒸发源的侧视示意图；

图2为图1中蒸发源的局部立体示意图；

图3为本发明较佳实施例蒸发源的立体示意图；

图4为本发明较佳实施例蒸发源的局部示意图；

图5为图4中V部的放大图；

图6为使用图3所示蒸发源的蒸镀装置的剖面示意图。

具体实施方式

请参阅图3，本发明较佳实施例的蒸发源200，包括一电极组件22以及多层用于支撑蒸镀丝材60(参见图5)的支撑单元24。

电极组件22的外围形状呈长方体形，其包括四电极杆220及位于该四电极杆220端部、将该四电极杆220并联连接的连接部224，该四电极杆220为该长方体的四个棱柱设置。该四电极杆220通过该连接部224进行电导通。

请进一步参阅图4，每层支撑单元24包括四支撑架240，该四支撑架240大致在同一水平面延伸，且相邻的二支撑架240的延伸方向大致互相垂直。

每一支撑架240包括分别由相邻的二电极杆220伸出的二支撑臂241及若干架设于该二支撑臂241上的发热电阻丝243。每一支撑架240的二支撑臂241上对称开设有至少一对卡固槽2412及邻近该卡固槽2412开设的一螺孔2414。每一螺孔2414用于螺接一定位垫片2416。