[发明专利]喷涂遮蔽结构及采用该结构的喷涂遮蔽方法

权利要求书

1.一种喷涂遮蔽结构，用于对工件的非喷涂面进行遮蔽，工件包括自喷涂面凹陷的凹槽，所述凹槽的底面为非喷涂面，所述喷涂遮蔽结构包括第一遮蔽件，所述第一遮蔽件具有一抵持面及与抵持面相对的遮蔽面，所述第一遮蔽件可收容于所述凹槽并使所述遮蔽面朝向所述凹槽的底面，其特征在于：所述喷涂遮蔽结构还包括第二遮蔽件，所述第二遮蔽件具有与第一遮蔽件的抵持面配合的抵顶面，所述抵持面及抵顶面边缘的轮廓形状与所述凹槽的底面边缘的轮廓形状相同。

2.如权利要求1所述的喷涂遮蔽结构，其特征在于：所述抵持面与抵顶面为平面。

3.如权利要求1所述的喷涂遮蔽结构，其特征在于：所述第二遮蔽件还包括自抵顶面边缘垂直延伸的侧壁。

4.如权利要求1所述的喷涂遮蔽结构，其特征在于：所述第二遮蔽件自抵顶面边缘延伸的侧壁，所述侧壁与所述抵顶面的夹角小于90度。

5.如权利要求1所述的喷涂遮蔽结构，其特征在于：所述第二遮蔽件还包括自抵顶面边缘延伸的侧面及与抵顶面相对的顶面，所述顶面部分凹陷形成有收容槽。

6.一种喷涂遮蔽方法，用于对工件喷涂时的非喷涂面进行遮蔽，包括以下步骤：

提供一工件，工件包括自喷涂面凹陷的凹槽，凹槽具有底面，所述底面为非喷涂面；

提供一喷涂遮蔽结构，所述喷涂遮蔽结构包括第一遮蔽件及第二遮蔽件，所述第一遮蔽件具有一抵持面及与抵持面相对的遮蔽面，所述第一遮蔽件可收容于所述凹槽并使所述遮蔽面朝向所述凹槽的底面，所述第二遮蔽件具有与抵持面配合的抵顶面，所述抵持面及抵顶面边缘的轮廓形状与所述底面边缘的轮廓形状相同；

将第一遮蔽件放置于工件的凹槽，使所述遮蔽面朝向该凹槽的底面，抵持面边缘与凹槽底面的边缘平齐；

将第二遮蔽件放置于第一遮蔽件上，使抵顶面与抵持面贴合，且抵顶面边缘与抵持面边缘平齐。

7.如权利要求6所述的喷涂遮蔽方法，其特征在于：所述抵持面与抵顶面为平面。

8.如权利要求6所述的喷涂遮蔽方法，其特征在于：所述第二遮蔽件还包括自抵顶面边缘垂直延伸的侧壁。

9.如权利要求6所述的喷涂遮蔽方法，其特征在于：所述第二遮蔽件自抵顶面边缘延伸的侧壁，所述侧壁与所述抵顶面的夹角小于90度。

10.如权利要求6所述的喷涂遮蔽方法，其特征在于：所述第二遮蔽件还包括自抵顶面边缘延伸的侧面及与抵顶面相对的顶面，所述顶面部分凹陷形成有收容槽。