[发明专利]均匀度测量系统与方法

权利要求书

1.一种均匀度测量系统，其特征在于：所述测量系统包括一聚光元件、一用于把持所述聚光元件的把持部、一用于获取光斑的影像处理装置、一承放所述影像处理装置的承载台以及一处理器，所述承载台与所述把持部相对并可相对于把持部移动，以调整光线通过所述聚光元件在所述影像处理装置的光斑大小，所述处理器与所述影像处理装置连接，以对从所述影像处理装置获取的影像数据进行计算得出所述聚光元件的均匀度。

2.如权利要求1所述的均匀度测量系统，其特征在于：还包括一比较控制器，所述比较控制器在影像处理装置接收的光斑最小时向影像处理装置输出控制信号，控制影像处理装置摄取最小光斑的影像。

3.如权利要求1所述的均匀度测量系统，其特征在于：还包括与处理器以及影像处理装置相连的一显示装置，所述显示装置显示由处理器计算得出的聚光元件均匀度数值以及影像处理装置获取的光斑影像。

4.如权利要求1所述的均匀度测量系统，其特征在于：所述影像处理装置的尺寸大小或者受光面大小和与所述聚光元件一起使用的太阳能电池板相等。

5.如权利要求1所述的均匀度测量系统，其特征在于：所述影像处理装置包括一CCD传感器或者一CMOS传感器。

6.一种均匀度量测方法，包括以下步骤：

a.提供一影像处理装置；

b.将影像处理装置放置于聚光元件聚光的一侧；

c.提供一承载台和一把持部，所述影像处理装置承放于承载台上面，所述把持部将所述聚光元件把持固定，所述承载台可相对于把持部移动；

d.移动承载台直至影像处理装置获得最小光斑；

e.提供一处理器对从影像处理装置获取的影像数据进行计算得出聚光元件的均匀度。

7.如权利要求6所述的均匀度量测方法，其特征在于：还提供一比较控制器，所述比较控制器在影像处理装置接收的光斑最小时向影像处理装置输出控制信号，控制影像处理装置摄取最小光斑的影像。

8.如权利要求6所述的均匀度量测方法，其特征在于：还提供与处理器以及影像处理装置相连的一显示装置，所述显示装置显示由处理器计算得出的聚光元件均匀度数值以及影像处理装置获取的光斑影像。

9.如权利要求6所述的均匀度量测方法，其特征在于：所述影像处理装置的尺寸大小或者受光面大小和与所述聚光元件一起使用的太阳能电池板相等。

10.如权利要求6所述的均匀度量测方法，其特征在于：所述影像处理装置系包括一CCD传感器或者CMOS传感器。