[发明专利]软板镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置，尤其涉及一种应用于软性基板的滚筒式镀膜装置。

背景技术

随着电子技术的飞速发展，各种电子产品不断得到普及应用，消费者的要求也随之提高。如对显示器的要求，从阴极射线管(Cathode-ray Tube，CRT)开始，逐渐被更为轻薄的液晶显示器(Liquid-crystal display，LCD)替代。而近期业界热门的软性基板的发展，又使得消费者对采用软性基板的显示器有了新的需求。因此，各种采用软性基板的电子产品(如电子纸)也将随之逐渐走向人们的生活。

一般情况下，软性基板需要进行镀膜处理，传统技术中，通常采用卷对卷(Roll-to-roll)设备进行镀膜加工。但是这种传统技术中，一般只有对应一种镀膜加工的单一制程，这种单一的制程对应着一种制程参数，在此制程参数下，只能进行一种基材的镀膜加工。对于不同类型的基板或同一种基板对应的不同镀膜制程，通常需要更换制程参数后才能进行加工。由此，传统技术中不易实现基板的批次镀膜制程，镀膜加工效率难于提升。此外，传统技术中基板的不同镀膜制程之间不具连续性，导致不同制程之间转换时需要运送相应的基板，由此，易在运送基板的过程中造成污染。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可改善传统技术中软性基板镀膜加工中存在的问题的镀膜装置。

一种软板镀膜装置，其具有镀膜室，设置于所述镀膜室内顶部的滑轨，与所述滑轨相配合的滑块，及设置于所述滑块上的滚筒。所述滑块可沿所述滑轨滑动。待镀膜的软板缠绕在所述滚筒上，所述滚筒随所述滑块在所述滑轨上滑动，所述滚筒可绕其中心轴相对于所述滑块旋转。所述镀膜装置具有用于容置不同溶液的多个溶液槽，所述多个溶液槽设置于所述镀膜室内底部；所述多个溶液槽的排列方向与所述滑块的滑动路径相一致，且所述溶液槽朝向所述滑轨。所述滚筒进一步经由一个旋转升降机构连接于所述滑块，所述旋转升降机构用于控制所述滚筒进入或离开所述溶液槽以及控制所述滚筒相对于所述滑块旋转。

与现有技术相比，采用本发明的所述镀膜装置进行镀膜加工，具有以下优点：其一，可同时进行不同种类软性基板的镀膜制程，易实现软性基板的大批量镀膜加工，提高镀膜加工效率，且加工出来的产品品质再现性高。其二，可形成连续的镀膜流程，使得同一软性基板所需的不同镀膜加工制程之间具有连续性，可减少软性基板因在不同制程之间运送而造成的污染。其三，所述镀膜装置结构简单，易于配套实现自动化加工，可有效提升产能。

附图说明

图1是本发明实施例提供的镀膜装置的示意图，所述镀膜装置包括镀膜室、滑轨、滑块、“匚”形旋转架、滚筒及溶液槽。

图2是图1所述的镀膜装置的分解示意图。

图3是图1所示的镀膜装置的滑块的示意图。

图4是图1所示的镀膜装置中“匚”形旋转架及滚筒的示意图。

图5是图1所示的镀膜装置的平面示意图。

主要元件符号说明

具体实施方式

下面将结合附图及实施例对本技术方案作进一步详细说明。

请参阅图1与图2，本发明实施例提供一个镀膜装置100，其包括一个镀膜室10，两条滑轨20，一块滑块30，一个滚筒40，四个溶液槽50及两条风槽60。

所述两条滑轨20通过所述两条风槽60横向呈悬臂状悬挂于所述镀膜室10内的顶部。所述两条滑轨20相互间隔且平行设置。所述滑轨20为方形管结构，其内部为沿滑轨20的长度方向延伸的中空部22。

请参阅图3，所述滑块30为E形结构，其具有两个钩槽31及一个悬挂部33。所述两个钩槽31分别与所述两条滑轨20配合，使所述滑块30挂设于所述两条滑轨20上形成滑动装置，所述滑块30可沿所述滑轨20的长度方向滑动。所述悬挂部33朝向所述镀膜室10底部的一端开设有一个螺纹孔35。所述螺纹孔35与一个螺纹轴37螺纹配合。所述螺纹轴37与所述螺纹孔35的螺纹配合使得所述螺纹轴37可相对所述滑块30旋转升降运动。

请参阅图2与图4，所述滚筒40通过一个中心转轴42连接于一个“匚”形旋转架44的两臂421。所述滚筒40可绕所述中心转轴42旋转。所述“匚”形旋转架44中连接所述两臂421的主体部423的中心位置开设有孔425。所述孔425与所述滑块30上的螺纹轴37相配合连接，使得所述“匚”形旋转架44的“匚”形开口朝向所述镀膜室10的底部，由此，设于所述“匚”形旋转架44的两臂421上的所述滚筒40随所述中心转轴42朝向所述镀膜室10的底部。