[发明专利]一种用冗余金属填充实现版图密度均匀化的预处理方法有效
| 申请号： | 200910312877.3 | 申请日： | 2009-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102117348A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 周隽雄;陈岚;阮文彪;李志刚;杨飞;王强;叶甜春 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 冗余 金属 填充 实现 版图 密度 均匀 预处理 方法 | ||
1.一种用冗余金属填充实现版图密度均匀化的预处理方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
将版图进行网格化处理，使之形成多个等大小的分块；
依次计算每个分块的密度；
根据预设分块密度下限，将所述版图中所有分块的密度调整到所述预设分块密度下限之上；
将每个分块的密度调整到使之与其周围相邻各个分块的密度差值在预设允许密度波动值范围内；
根据调整后的各分块密度对所述版图进行冗余金属填充。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(2)中计算每个分块的密度是通过化学机械研磨模拟工具来计算的。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(3)中将所述版图中所有分块的密度调整到所述预设分块密度下限之上的步骤包括：判断是否存在小于所述预设分块密度下限的分块；如果是，则将该分块的密度调整为所述预设分块密度下限。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(4)中将每个分块的密度调整到使之与其周围相邻各个分块的密度差值在预设允许密度波动值范围内的步骤包括：对于每个分块，得到与该分块的周围相邻各分块密度的最大值，根据所述最大值调整该分块的密度与其周围相邻各分块的密度差值在预设允许密度波动值范围内。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述最大值调整该分块的密度与其周围相邻各分块的密度差值在预设允许密度波动值范围内的步骤包括：将所述最大值与该分块密度进行比较，判断所述最大值减去该分块密度的差值是否大于预设允许密度波动值，如果是，则将当前分块密度大小调整为所述最大值减去预设允许密度波动值的差值，否则不做调整。
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