[发明专利]一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法

权利要求书

1.一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法，其特征在于钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法按以下步骤进行：一、将钛合金的表面用2000号砂纸打磨去掉表面的氧化层，然后放入丙酮中超声清洗3min～10min；二、按主盐浓度为5g/L～50g/L和添加剂浓度为2g/L～20g/L称取主盐和添加剂，配制成水溶液，得到电解液；三、将经步骤一处理的钛合金置于装有经步骤二配制的电解液的不锈钢槽体中，以钛合金做阳极、不锈钢槽体为阴极，采用脉冲微弧氧化电源供电，在脉冲电压为350V～600V、频率为50Hz～3000Hz、占空比为10％～45％、电解液温度为20℃～40℃的条件下氧化10min～90min，即可在钛合金基体上制备耐高温高发射率涂层；其中步骤二中所述的主盐为磷酸三钠、硅酸钠和偏铝酸钠中的一种或其中几种的组合；步骤二中所述的添加剂为乙酸钴、硫酸亚铁、乙酸镍、乙酸铜、重铬酸钾和乙酸锰中的一种或其中几种的组合。

2.根据权利要求1所述的一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法，其特征在于步骤一中所述的钛合金为TC4或TA15。

3.根据权利要求1或2所述的一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法，其特征在于步骤一中钛合金在丙酮中超声清洗4min～8min。

4.根据权利要求3所述的一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法，其特征在于步骤二中所述的主盐的浓度为10g/L～45g/L，添加剂的浓度为5g/L～15g/L。

5.根据权利要求1、2或4所述的一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法，其特征在于步骤二中所述的主盐的浓度为25g/L、添加剂的浓度为10g/L。

6.根据权利要求5所述的一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法，其特征在于步骤三中所述的脉冲电压为380V～550V。

7.根据权利要求1、2、4或6所述的一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法，其特征在于步骤三中所述的频率为100Hz～2500Hz。

8.根据权利要求7所述的一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法，其特征在于步骤三中所述的占空比为15％～40％。

9.根据权利要求1、2、4、6或8所述的一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法，其特征在于步骤三中所述的氧化时间为20min～80min。