[发明专利]镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置。

背景技术

目前，许多工业产品表面都镀有功能薄膜以改善产品表面的各种性能。如在光学镜片的表面镀上一层抗反射膜，以降低镜片表面的反射率，降低入射光经过镜片的能量损耗。又如于某些滤光组件表面镀上一层滤光膜制成滤光片，其可过滤掉一预定波段的光。一般地，镀膜方法主要包括蒸镀法、离子镀膜法、射频磁控溅镀、化学气相沉积法等。

蒸镀装置通常包括一个蒸镀腔室、一个用于承载待镀膜工件的伞形基板及一个位于该伞形基板正下方的用于承载膜料的坩埚。传统的蒸镀方法是将待镀膜基材放置于伞形基板上，然后使气态或离子态的膜料沉积于待镀膜基材上表面形成薄膜。然而，一般蒸镀装置内用于承载膜料的坩埚距离该伞形基板每一个点的距离不完全相等，导致沉积速率不均等，所以会产生膜厚不均匀的现象，影响镀膜质量。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种镀膜效果较好的镀膜装置。

一种镀膜装置，包括镀膜室、安装于该镀膜室内的镀膜件放置板、蒸镀装置。蒸镀装置与镀膜件放置板相对设置。镀膜件放置板为一平板。镀膜装置还包括设于镀膜室内，且位于蒸镀装置与镀膜件放置板之间的等离子体发射器。等离子体发射器包括相互平行且共面的多个等离子体发射管，多个等离子体发射管所形成的平面与镀膜件放置板平行。

该镀膜装置的蒸镀装置所产生的气态分子与该等离子体发射器所产生的等离子体相互撞击形成镀膜离子。由于多个等离子体发射管所于平面与镀膜件放置板平行，因此每一个等离子体发射管至镀膜件放置板的距离相等。由此，经等离子体发射器处理后的镀膜离子飞行几乎相同的距离后到达镀膜件放置板表面，所形成的镀膜厚度较为均匀，产品质量较佳。

附图说明

图1为本发明实施例的镀膜装置的立体示意图。

图2是图1所示镀膜装置的分解示意图。

图3是图1沿III-III方向的剖面示意图。

图4是本发明实施例的镀膜装置的使用方法的流程图。

主要元件符号说明

  镀膜装置  100  镀膜室  10