[实用新型]等离子体辅助化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种等离子体辅助化学气相沉积设备，其特征在于，包括：

一加载单元；

一输出单元；

至少一反应单元；以及

一传输单元；

其中，该加载单元、该输出单元、以及该反应单元系围绕该传输单元的周围而配置，或配置于该传输单元的一侧，并分别与该传输单元连接；

该至少一反应单元各自独立地包括二个以上的等离子体辅助化学气相沉积装置，且该二个以上的等离子体辅助化学气相沉积装置互相堆叠而配置。

2.如权利要求1所述的等离子体辅助化学气相沉积设备，其特征在于，该化学气相沉积装置包括：

一反应腔；

一高度调整件，配置于该反应腔之外；

一承载板，配置于该反应腔内；

一电极，对应该承载板而配置于该反应腔内，并与该承载板之间留有一余隙；

至少一电极支撑件，位于该电极的一侧并抵顶该电极，且该电极支撑件穿出该反应腔并连接至该高度调整件；

一进气装置，连接至该反应腔；以及

一排气装置，连接至该反应腔。

3.如权利要求2所述的等离子体辅助化学气相沉积设备，其特征在于，该每一等离子体辅助化学气相沉积装置设置有多数个滚轮，且该反应单元对应该滚轮设置有轨道。

4.如权利要求1所述的等离子体辅助化学气相沉积设备，其特征在于，该传输单元包括有一机械手臂。

5.如权利要求2所述的等离子体辅助化学气相沉积设备，其特征在于，该反应腔内壁面一预定位置配置有一定位块，该电极支撑件具有一挡止件，且该挡止件与该定位块相对应配置。

6.如权利要求5所述的等离子体辅助化学气相沉积设备，其特征在于，包括一垫块，配置于该挡止件之上。

7.如权利要求2所述的等离子体辅助化学气相沉积设备，其特征在于，该进气装置穿过该反应腔并连接至该电极。

8.如权利要求2所述的等离子体辅助化学气相沉积设备，其特征在于，该反应腔包括有一上盖以及一腔体。

9.如权利要求2所述的等离子体辅助化学气相沉积设备，其特征在于，该承载板为一加热式承载板。

10.如权利要求2所述的等离子体辅助化学气相沉积设备，其特征在于，包括两个以上的支撑柱，配置于该承载板的下方并抵顶该承载板。