[实用新型]硅片离心脱水架无效
申请号: | 200920045487.X | 申请日: | 2009-05-19 |
公开(公告)号: | CN201449994U | 公开(公告)日: | 2010-05-05 |
发明(设计)人: | 周永清 | 申请(专利权)人: | 宜兴市鼎科电子电力器材厂 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/673 |
代理公司: | 无锡华源专利事务所 32228 | 代理人: | 方为强 |
地址: | 214000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅片 离心 脱水 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种硅片离心脱水时的辅助容器,尤其是涉及一种用于硅片离心脱水的硅片离心脱水架。
背景技术
硅片在生产过程中需要经过清洗、烘干的工序,清洗后,由于硅片上的水较多,烘干所用的时间较长,而且会在硅片的表面形成水渍,因此,在硅片进行烘干前,需在离心脱水机上脱水。在硅片脱水时,硅片装入离心脱水架,然后在离心脱水机中脱水,由于离心脱水架与硅片之间存在一些间隙,并且离心脱水时的振动较大,较易造成硅片的损伤,甚至破碎,造成硅片生产合格率的下降。
实用新型内容
本申请人针对上述的问题,进行了研究改进,提供一种结构简单、使用方便的硅片离心脱水架,减少硅片在脱水过程中的破损,提高硅片生产的合格率,降低硅片的生产成本。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用如下的技术方案:
一种硅片离心脱水架,包括外架及内架,使用时,内架嵌装在外架中;所述外架为单面开口的长方体,外架的侧面及底面上开有多个脱水孔,两个相对的侧面外侧设有挂杆;所述内架包括铰接在一起的左架及右架,左架及右架上分别设有相对的多个V形容片槽,左架及右架的侧壁外分别设有楔块,左架及右架后部的相应位置上分别设有止块,左架及右架的侧壁开设有通孔。
进一步的:
所述V形容片槽的角度为45°~90°。
所述左架及右架的外侧设有“L”形拉手。
本实用新型的技术效果在于:
本实用新型公开的一种硅片离心脱水架,结构简单,使用方便,采用内架及外架的结构,构成内架的左、右架铰接并在左、右架的外侧壁上设有楔块,并采用V形容片槽,从而消除硅片与容片槽之间的间隙,减少硅片由于脱水过程中的振动而引起的破损,提高硅片生产的合格率,降低硅片的生产成本。
附图说明
图1为本实用新型的三维结构示意图。
图2为本实用新型内架的三维结构示意图。
图3为左架的三维结构示意图。
图4为右架的三维结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明。
如图1、2、3、4所示,本实用新型包括外架1及内架2,使用时,内架2嵌装在外架1中,外架1为单面开口的长方体,外架1的侧面及底面上开有多个脱水孔101,两个相对的侧面外侧设有挂杆102。内架2包括左架3及右架4,右架4上设有销轴401,左架3上设有销轴孔301,通过销轴401及销轴孔301使左架3及右架4铰接在一起的。左架3及右架4上分别设有相对的多个V形容片槽5,V形容片槽5的角度A的最佳实施范围为45°~90°,在本实施例中,V形容片槽5的角度A为60°。左架3及右架4的侧壁外分别设有楔块6,左架及右架的侧壁开设有通孔8。左架3的销轴孔301后部设有止块302,右架4的销轴401后部设有止块402,止块302及止块402分别在左架3及右架4的相应位置上,使左架3及右架4可以向内闭合,而不能向外张开,避免在装入硅片及取出硅片时,左架3及右架4张开而使硅片掉落,造成不必要的损失。左架3及右架4的外侧的上、下部设有“L”形拉手9,便于内架2从外架1中取出。
使用时,先将硅片插入内架2的容片槽5中,再把内架2嵌装到外架1中,由于楔块6及外架1的作用,使左架3及右架4向内闭合,使硅片夹紧在容片槽5中,从而消除硅片与容片槽5之间的间隙,从而减小离心脱水机振动对硅片造成的损伤。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造