[实用新型]新型旋回式抛光磨头

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种瓷砖(石材)抛光设备用磨头，具体涉及一种新型旋回式抛光磨头。

背景技术

如图1示出了现有的一种抛光磨头，其各磨块摆杆系由一旋回机构驱动摆动(该旋回机构的具体结构和工作原理可参见《佛山陶瓷》2006年第10期中的《旋回机构工作原理及运动规律分析》)。如图1～图6所示，该种旋回式抛光磨头的结构包括有一主要由磨盘转轴6和摆盘5组成的旋回机构，摆盘5的外周缘设置有三个等夹角布置的爪51；三组摆杆机构，每组摆杆机构由一个主动摆杆3和一个从动摆杆4组成，每个主动摆杆和从动摆杆上均装有一个磨块7，主动摆杆3和从动摆杆4之间通过锥齿轮啮合传动；每组摆杆机构的主动摆杆均通过一滑块2和一压轴1与摆盘5上的一个爪51连接，滑块2通过压轴1铰接在爪51中并可于设置在主动摆杆3的滑槽31中滑动。其工作原理如下：旋回机构的磨盘转轴6旋转带动摆盘5作旋回摆动使滑块2在滑槽31中自由滑动(轴向)及摆动(周向)，进而使主动摆杆3及装于其上的磨块摆动；又通过锥齿轮啮合传动于从动摆杆4，从而带动从动摆杆4及装于其上的磨块摆动。如此，三组摆杆机构在随磨盘公转的同时，不停地往复摆动，这样使磨块与待抛光面始终保持线接触状态，从而保证了磨削所需的比压和有利于排屑。

然而，上述旋回式抛光磨头机构存在如下缺点：1、主动摆杆在驱动磨块的同时，又要驱动从动摆杆，动力特性差；2、齿轮传动为高副传动，接触应力大，易磨损；3、齿轮机构加工、安装要求高，不但成本高，而且质量难以有效控制；4、驱动力由转盘三个爪输出，负荷大，易产生断裂损坏。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种新型旋回式抛光磨头，以有效解决现有旋回式抛光磨头的不足之处。

为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：新型旋回式抛光磨头，包括一旋回驱动机构，主要由转轴和摆盘组成，摆盘的外周缘设置有若干个爪；若干摆杆，每一摆杆具有两摆臂；和若干磨块，与摆杆数量相等，并分别装置于每一摆杆的其中一摆臂上；所述摆杆的数量与摆盘上的爪的数量相等，且每一摆杆的另一摆臂与摆盘上的一个爪连接。

进一步，上述每一摆杆的另一摆臂通过一压轴和一滑块与摆盘上的一个爪连接，滑块通过压轴与爪铰接并于设置在摆杆另一摆臂上的滑槽中滑动。滑槽的定位设计线与摆杆的摆轴轴线的水平投影夹角α优选为30度。

上述摆盘的外周缘设置有至少三个爪，且该至少三个爪等夹角布置。作为优选，所述爪的数量为六个，可进一步降低爪的负荷，减少发生断裂损坏的可能性。

本实用新型通过采用上述结构，取消了原有旋回式抛光磨头的一个摆杆传动另一个摆杆的驱动方式，进而取消了锥齿轮机构，降低了对旋回式抛光磨头产品的加工及装配要求，使其以更经济、更可靠的方式对产品进行控制。

附图说明

图1是现有旋回式抛光磨头的结构示意图；

图2是现有旋回式抛光磨头的工作原理图；

图3是现有旋回式抛光磨头所述摆盘的结构示意图；

图4是图3的A-A向剖视结构示意图；

图5是现有旋回式抛光磨头所述主动摆杆的结构示意图；

图6是现有旋回式抛光磨头所述主动摆杆的剖视结构图；

图7是本实用新型的结构示意图；

图8是本实用新型的工作原理图；

图9是本实用新型所述摆盘的结构示意图；

图10是本实用新型所述摆杆的剖视结构图；

图11是图10的K向结构图。

图中：

1-压轴；2-滑块；3-主动摆杆/摆杆；31-滑槽；32-摆臂；4-从动摆杆；5-摆盘；51-爪；6-磨盘转轴；7-磨块。

现结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明：

具体实施方式

如图7～图11所示，本实用新型所述的新型旋回式抛光磨头，具有一主要由磨盘转轴6和摆盘5组成的旋回驱动机构，摆盘5的外周缘等夹角布置六个爪51，相邻两爪的夹角为60度。六条摆杆3，每一摆杆3具有两摆臂32，其中一摆臂端侧装置磨块7；另一摆臂的端侧设置有滑槽31；滑槽的定位设计线与摆杆的摆轴轴线的水平投影夹角α为30度。每条摆杆3通过压轴1和滑块2与摆盘5上的一个爪51连接：滑块2通过压轴1与爪51铰接并于滑槽31中滑动。

本实用新型工作时，在旋回驱动机构的驱动下，摆盘5上的各爪51带动滑块2在滑槽31中自由滑动(轴向)及摆动(周向)，进而使各摆杆3及装于其上的磨块摆动，使磨块与待抛光面始终保持线接触状态，从而保证了磨削所需的比压和有利于排屑。

本实用新型的六个摆杆不分主动、被动，之间没有间接驱动，均为摆盘直接驱动，大大改善了系统的动力特性；六个摆杆形状、尺寸完全一致，减少了零件品种；在外界负荷一定的情况，摆盘输出爪由三个改为六个，单个负荷大大降低，减少了断裂破坏的可能；取消了原设计的锥齿结构，降低了加工、装配难度及制造成本。