[实用新型]可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置无效
申请号: | 200920071482.4 | 申请日: | 2009-04-30 |
公开(公告)号: | CN201421241Y | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
发明(设计)人: | 汤兆胜 | 申请(专利权)人: | 上海兆九光电技术有限公司 |
主分类号: | F26B9/06 | 分类号: | F26B9/06;F26B21/00;C03C17/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 脱 颖 |
地址: | 201600上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 避免 超声 清洗 镀膜 玻璃 烘干 水印 装置 | ||
1.可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置,其特征在于,包括第一壳体,第一壳体具有第一容腔,容腔内安装有风机,风机出口与进风通道相通,所述第一壳体内还设置有第二壳体,第二壳体具有第二容腔,第二壳体设置有进风口和出风口,进风口与进风通道相通,出风口与第一壳体的容腔相通。
2.根据权利要求1所述的可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置,其特征在于,所述的进风通道内安装有滤网。
3.根据权利要求1所述的可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置,其特征在于,所述的第一壳体内安装有水冷装置,水冷装置安装在第二壳体出风口处。
4.根据权利要求1所述的可避免超声清洗镀膜玻璃基片烘干水印的烘干装置,其特征在于,所述的第一壳体安装有排水管。
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