[实用新型]吸附平台

权利要求书

1、一种吸附平台，其特征在于，其包括：

一平台主体；

一设于该平台主体上的定位角尺，该定位角尺的一臂上设有用于调节该定位角尺的定位区域的调节装置；

以及设于该定位区域内的真空吸附台。

2、如权利要求1所述的吸附平台，其特征在于，该调节装置包括：

一沿垂直于该臂且平行于该平台主体上表面的方向可旋动地穿设于该臂上的螺旋调节器；

一挡块，沿平行于该臂的方向固定于该螺旋调节器的朝向该定位区域一侧的末端上。

3、如权利要求2所述的吸附平台，其特征在于，该调节装置还包括两个可移动地穿设于该臂上的弹簧导轨，该两个弹簧导轨分别位于该螺旋调节器两侧且与该螺旋调节器平行。

4、如权利要求2所述的吸附平台，其特征在于，该螺旋调节器的调节精度为微米量级。

5、如权利要求1所述的吸附平台，其特征在于，该真空吸附台内部设有真空槽，该真空槽的一端通至该真空吸附台上表面，另一端通至一用于连接真空源的真空孔，该真空吸附台上表面还设有一密封圈。

6、如权利要求5所述的吸附平台，其特征在于，该密封圈的材料为硅橡胶。

7、如权利要求1所述的吸附平台，其特征在于，该定位角尺嵌设于该平台主体上表面的凹槽中。

8、如权利要求1所述的吸附平台，其特征在于，该定位角尺的两臂为一体式或分离式。

9、如权利要求1所述的吸附平台，其特征在于，该定位角尺为T型或L型。