[实用新型]六氟化硫气体泄漏激光成像仪无效
| 申请号： | 200920072039.9 | 申请日： | 2009-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN201397221Y | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | 江厚文 | 申请（专利权）人： | 上海宁跃电子有限公司 |
| 主分类号： | G01M3/38 | 分类号： | G01M3/38 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201800上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 六氟化硫 气体 泄漏 激光 成像 | ||
【权利要求书】：
1.一种六氟化硫气体泄漏激光成像仪，包括电源模块、激光发射器和冷却系统，其特征在于：该成像仪还包括镜头、探测器、显示模块和激光控制板，镜头和探测器连接，探测器的信号输出端与显示模块连接，激光控制板与激光发射器连接。
2.根据权利要求1所述成像仪，其特征在于：所述激光发射器为CO2激光发射器，该发射器发出的激光波长在9-12微米之间。
3.根据权利要求1所述成像仪，其特征在于：所述激光发射器的出光端设有激光散射镜，使激光传射由定向转为发散。
4.根据权利要求1所述成像仪，其特征在于：所述镜头由滤光镜和滤光片组成，滤光片设于滤光镜的后方，反射光先经过滤光镜筛选后在被滤光片筛选。
5.根据权利要求4所述成像仪，其特征在于：所述滤光镜能使8-14微米的光透过，所述滤光片能使10.6微米的光透过。
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