[实用新型]晶圆清洗设备有效
| 申请号： | 200920073158.6 | 申请日： | 2009-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN201454923U | 公开（公告）日： | 2010-05-12 |
| 发明（设计）人： | 卢夕生;杜亮 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种晶圆清洗设备，包括：外罩，所述外罩表面设有若干个缺口；其特征在于，还包括与所述缺口位置对应，用于封闭或者开放所述缺口的控制门。
2.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备，其特征在于，还包括：圆柱齿轮，用作控制门的转轴；齿轮环，具有内齿圈和外齿圈，所述圆柱齿轮位于所述齿轮环的内圈，并与该齿轮环的内齿圈相啮合；齿轮轴，位于所述齿轮环的外圈，并与该齿轮环的外齿圈相啮合。
3.根据权利要求2所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述齿轮轴上带有齿轮马达，用于带动所述齿轮轴转动。
4.根据权利要求2所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述齿轮环位于外罩的外侧，并且所述齿轮环的中心与该外罩的中心重合。
5.据权利要求1所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述缺口或者控制门的数量为3-4个。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920073158.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
