[实用新型]网格阵列二极管无效
申请号: | 200920074467.5 | 申请日: | 2009-09-04 |
公开(公告)号: | CN201466028U | 公开(公告)日: | 2010-05-12 |
发明(设计)人: | 马晓琳;崔文兵;童红亮 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/082 | 分类号: | H01L27/082;H01L29/861 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 孙大为 |
地址: | 201206 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 网格 阵列 二极管 | ||
1.一种网格阵列二极管,其特征在于,包括:
纵向NPN管基极与集电极通过金属连线短接的单元二极管;
单元二极管为正方形元胞,呈网格状交错排列,并联为一个整体大功率二极管;
单元二极管的负极由NPN管发射极组成;
单元二极管的正极由NPN管基极和集电极组成;
单元二极管的负极在中间低压N阱区域,正极包在四周,属于高压P阱区域;
相邻二极管单元公用上下左右正极,组成网格状有源区,每个网格中心是单元二极管的负极;
网格阵列PN结二极管以单元二极管的负极中心呈对称分布;
所有单元管集电极公用,包围在网格阵列PN结二极管的外边N外延区域。
2.如权利要求1所述的网格阵列二极管,其特征在于,负极方形单元网格阵列包括加强N型区,其形状呈方形,其外包低压N型阱区,加强N型区部分和低压N型阱区形成单元二极管的负极;还包括加强P型区,形成单元二极管的正极,高压P型阱区,包围加强P型区和低压N型阱区部分。
3.如权利要求2所述的网格阵列二极管,其特征在于,二极管正方形元胞内径边长10~50μm,正极边带宽2~10μm,负极正方形边长5~25μm,元胞二极管有效电流通道面积与元胞总面积之比为0.4至0.6。
4.如权利要求1所述的网格阵列二极管,其特征在于,负极六边形单元网格阵列包括加强N型区,其形状呈六边形,其外包低压N型阱区,加强N型区和低压N型阱区形成单元二极管的负极;还包括加强P型区,形成单元二极管的正极,高压P型阱区包围加强P型区和低压N型阱区。
5.如权利要求4所述的网格阵列二极管,其特征在于,二极管正方形元胞内径边长10~50μm,正极边带宽2~10μm,负极六边形边长3~20μm,元胞二极管有效电流通道面积与元胞总面积之比为0.4至0.6。
6.如权利要求1所述的网格阵列二极管,其特征在于,负极圆形单元网格阵列包括区域1部分是加强N型区,其形状呈圆形,其外包低压N型阱区,加强N型区和低压N型阱区形成单元二极管的负极;还包括加强P型区,形成单元二极管的正极,高压P型阱区包围加强P型区和低压N型阱区。
7.如权利要求6所述的网格阵列二极管,其特征在于,二极管正方形元胞内径边长10~50μm,正极边带宽2~10μm,负极圆形半径3~20μm,元胞二极管有效电流通道面积与元胞总面积之比为0.4至0.6。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的