[实用新型]一种光刻机硅片台双台交换装置

权利要求书

1.一种光刻机硅片台双台交换装置，该装置含有基台(1)，两个预处理工位(2)、(4)，曝光工位(3)；

所述在基台(1)上设有运行于预处理工位(2)的硅片台(16)、运行于曝光工位(3)的硅片台(17)；

所述在基台(1)两侧长边边缘X方向分别设置有一条直线电机磁钢定子(9)和(10)，由X方向运动的第一单自由度驱动单元(5)，第二单自由度驱动单元(6)共用直线电机定子磁钢(9)，所述由X方向运动的第三单自由度驱动单元(7)，第四单自由度驱动单元(8)共用直线电机定子磁钢(10)；

所述两侧长边边缘Y方向的导轨(18)穿过硅片台(16)并驱动硅片台(16)沿Y方向运动，且Y方向的导轨(18)分别与X方向运动的第一单自由度驱动单元(5)和第三单自由度驱动单元(7)联结，共同驱动硅片台(16)在X-Y平面运动；

所述两侧长边边缘Y方向的导轨(19)穿过硅片台(17)并驱动硅片台(17)沿Y方向运动，并且Y方向的导轨(19)分别与X方向运动的第二单自由度驱动单元(6)和第四单自由度驱动单元(8)联结，共同驱动硅片台(17)在X-Y平面运动；

所述在基台(1)周围分别布置有测量X方向位移的双频激光干涉仪(11)和(15)，在测量Y方向位移的双频激光干涉仪(12)、(13)和(14)。

2.按照权利要求1所述的一种光刻机硅片台双台交换装置，其特征在于：所述在单自由度驱动单元(5)、单自由度驱动单元(6)、单自由度驱动单元(7)和单自由度驱动单元(8)的底部均分别装有直线电机线圈动子和真空预载气浮轴承，所述直线电机磁钢定子(9)和(10)分别安装在基台(1)长边两侧。

3.按照权利要求1所述的一种光刻机硅片台双台交换系统，其特征在于：该系统还包含用于硅片台运动位置反馈的双频激光干涉仪。