[实用新型]光学指纹采集装置在审

专利信息
申请号: 200920107206.9 申请日: 2009-04-16
公开(公告)号: CN201429852Y 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 李扬渊 申请(专利权)人: 成都方程式电子有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G06K9/20;G02B7/04
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 祁建国;梁 挥
地址: 610021四川省成都市红星中*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 指纹 采集 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及指纹采集装置,尤其涉及光学指纹采集装置。

背景技术

指纹采集仪是指纹识别系统的输入装置,可广泛使用于指纹锁、考勤系统、电子商务、银行储蓄、社会保险、PC甚至手机中,也可用于公安系统指纹比对采集作业。

光学成像采集仪,就是对指纹脊线谷线和光学介质界面接触程度的差异,进行光学成像采集,是一种接触式指纹采集设备,由光路部分和成像部分构成。由于光学成像采集仪把作为成像部分的半导体面阵传感器安装在壳内封闭环境,与手指接触的是光学元件,相对于传感器和手指近距离接触的其他半导体采集仪器类型,具有耐用性好、抗老化性强的特点。

传统的光学指纹采集装置中,指纹采集棱镜、透镜组和半导体传感器阵列分别安装,由于半导体传感器阵列面积小,镜像距小,安装的相对公差大:其中垂直于主光轴的偏差使成像中心在像素坐标发生偏移,而平行于主光轴的偏差则导致成像模糊。该成像偏差严重影响了指纹图像的采集,并进一步降低了指纹识别的准确率。

实用新型内容

为了解决上述的技术问题,提供了光学指纹采集装置,其目的在于提高指纹图像的清晰度,从而进一步提高指纹识别的准确率。

本实用新型涉及光学采集装置,包括光源、采集装置和成像装置;采集装置将光源发出的光汇聚到成像装置;成像装置,用于根据接收到的光成像;

成像装置包括透镜组、成像面和调节装置,透镜组、成像面和调节装置一体化设置;

调节装置,用于调节透镜组和成像面之间的距离。

光源为平行光源,采集装置为采集棱镜和聚光镜;其中平行光源从采集棱镜的入射面进入,聚光镜将从采集棱镜的出射面发出的光汇聚到成像装置。

光源为面光源或点光源,采集装置为采集棱镜;其中面光源或点光源从采集棱镜的入射面进入,从采集棱镜的出射面汇聚到成像装置。

成像装置还包括支架和底座;

成像装置由透镜组、支架、成像面和底座依次装配而成;

透镜组和支架通过调节装置连接。

光学采集装置具有外壳;光源位于外壳中,采集棱镜的出射面、底座与外壳构成封闭的空间。

调节装置为调节螺丝,调节螺丝的外螺纹设置在透镜组上,调节螺丝的内螺纹设置在支架上。

成像面由半导体传感器阵列构成。

半导体传感器为COMS传感器或CCD传感器。

采集棱镜与成像面之间的距离和角度固定。

本实用新型提供的光学指纹采集装置耐用性好、抗老化性强,并能够能减少成像偏差,提高指纹图像的清晰度,从而进一步提高指纹识别的准确率。

附图说明

图1是本实用新型的安装示意图;

图2是成像透镜组、调节装置和半导体传感器阵列的一体化成像设备装配图;

图3是本发明提供的第一个实施例;

图4是本发明提供的第二个实施例;

图5是本发明提供的第三个实施例。

具体实施方式

本实用新型的目的在于提供一种能减少成像偏差的光学指纹采集装置。

为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:

本实用新型所述的光学采集装置,见图1,由外壳1、光源2、棱镜3、包含了成像透镜组、调节装置和半导体传感器阵列的一体化成像设备4构成。

所述光学采集装置,固定了采集棱镜与半导体传感器阵列之间的距离和角度。

所述包含了成像透镜组、调节装置和半导体传感器阵列的一体化成像设备4,成像透镜组和半导体传感器阵列通过调节装置连接,用于调节透镜组和成像面之间的距离。其安装示意图见图2。包括:透镜组41、支架42、调节螺丝43、成像面44和底座45。

成像装置中成像面与底座的连接不受限制,可以通过机械连接,也可以用点焊或直接粘上。

成像装置中底座与外壳的连接不受限制,可以通过机械连接,也可以用点焊或直接粘上。

光学采集装置,固定了采集棱镜与半导体传感器阵列之间的距离和角度。

所述光源不受光源类型限制(如,平行光源、面光源、点光源)。

所述半导体传感器阵列作为成像面不受传感器类型限制,可用金属氧化物半导体(COMS)传感器或电荷藕合器件(CCD)传感器。

下面对本实用新型做进一步的详细描述。

实施例一:包括外壳1、平行光源21、采集棱镜3、透镜组41、调节螺丝43、成像面44、聚光镜5。见附图3,显示了平行光源的光路原理图,支架和底座未在图中显示。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都方程式电子有限公司,未经成都方程式电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920107206.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top